极测的精密温控箱罩专为满足三坐标测量仪等精密设备的严苛环境需求而设计。其具备的 ±0.002℃高精密温度控制能力，犹如为三坐标测量仪构建了一个恒温 “堡垒”。精密温控箱罩运用自主研发的高精密控温技术，确保精密温控箱罩内部温度稳定性关键区域可达 +/-2mK（静态），温度水平均匀性小于 16mK/m。保证测量仪在长时间运行过程中始终保持稳定的测量精度，实现0.1% 的控制输出精度。除了温度控制，精密温控箱罩在湿度和洁净度方面同样表现。精密温控箱罩内部湿度稳定性可达 ±0.5%@8h，避免了因湿度问题导致的测量仪零部件生锈、电子元件短路等故障，延长了设备使用寿命。同时，该系统可实现百级以上洁净度控制，内部洁净度蕞高可优于 ISO class3（设备工作区），有效防止灰尘等微小颗粒附着在测量仪的光学部件或被测工件表面，避免对测量精度造成干扰。例如，光刻工艺中，微小的温度波动会导致曝光位置的漂移，进而影响线路的精确度。0.02精密温控解决方案
在半导体产业链中，温度波动是导致芯片缺陷的关键因素之一：
蚀刻与沉积环节：极紫外（EUV）光刻、等离子蚀刻等工艺需将温度波动控制在±0.01℃以内，若温度漂移超过阈值，可能导致刻蚀深度不均、薄膜应力开裂等问题；
晶圆生长与加工：硅单晶生长过程中，温度梯度变化会引起晶格缺陷，影响晶圆电学性能；
芯片测试环节：环境温度波动可能导致测试仪器误差增大，造成芯片分选误判。极测精密水冷冷冻水机组以±0.001℃控温精度（远超行业标准）及动态负载适应能力，精zhun解决上述痛点，成为半导体工艺的“温度守护者”。 0.02精密温控解决方案坚固美观：钣金箱体坚固耐用，外观颜色可按需定制，完美融入现代化实验室环境。
极测（南京）技术有限公司注重设备的稳定性和可靠性。通过严格的质量检测和优化设计，确保设备在长时间运行过程中保持稳定性能，减少故障发生的概率。同时，极测还提供完善的售后服务，及时响应客户的需求，为客户解决设备使用过程中遇到的问题。 作为精密温控设备供应商，极测（南京）始终将守护半导体制造精度作为使命。凭借前列的技术、可靠的产品和高质量的服务，极测正在成为半导体制造企业信赖的合作伙伴，为推动半导体产业的发展贡献力量。
极测（南京）关键技术市如何适配半导体严苛需求的？毫 K 级控温的技术密码专li级 PID + 逐级控温：通过 “超高精度工艺冷却水系统及其恒温控制方法” 专li，结合自主研发温度采集模块与多级制冷回路设计，实现对蚀刻机腔体温度的±0.001℃级控制，例如在 EUV 光刻机中，可确保光刻胶曝光时的热形变小于 1 纳米；板式换热器强化传热：微通道结构与不锈钢材质提升换热效率 30% 以上，同时避免铜离子污染（半导体行业忌用材质），满足晶圆制造对水质纯净度的要求。抗干扰与快速响应能力双压缩机冗余设计：在晶圆厂 24 小时连续生产中，单压缩机故障时备用模块可在快速自动切入，避免因停机导致的工艺中断；变频技术动态调温：通过压缩机变频调节制冷量，在芯片测试环节面对多工位负载切换时，温度恢复时间很大缩短。极测（南京）深凭借在微环境控制领域的深厚技术积累，为高duan半导体量测设备设计精密环控系统。
在实际应用中，极测的温控设备已经在众多半导体制造企业中发挥了重要作用。某有名芯片制造企业在引入极测的温控设备后，光刻工艺的精度得到了明显提升。由于温度控制更加精zhun，芯片上的电路图案更加清晰、准确，有效减少了因温度问题导致的图案偏差和缺陷，产品良率大幅提高。现已服务多家芯片半导体前列企业与国家重点实验室。 同时极测（南京）具备全场景非标定制能力。可根据不同客户的需求根据温湿度稳定性、洁净度，以及抗微振、防磁、隔音等个性化参数，进行灵活定制。半导体洁净室中通常温度需要严格控制在20°C至25°C范围内，且温度波动不能超过±1°C。高精密温控设计
除了温控精度与洁净度，系统蕞高能将湿度稳定性维持在±0.3%RH，压力波动控制在±3Pa以内。0.02精密温控解决方案
三坐标测量仪通过探针接触或非接触式光学扫描等方式，对工件的尺寸、形状和位置进行精确测量。在测量过程中，环境温度的细微变化会引发测量仪自身结构以及被测工件的热胀冷缩。例如，当温度波动 1℃时，对于长度为 1 米的金属工件，其长度变化可达 10 微米左右，这在高精度测量中是不容忽视的误差来源。这种热变形不仅会影响测量仪的测量精度，还可能导致测量结果的重复性变差，使生产过程中的质量检测出现偏差，进而影响产品的蕞终质量和性能。0.02精密温控解决方案
