河南晶圆Mapping Inkless服务

测试数据长期累积导致存储空间迅速膨胀，而大量重复或无效记录加剧资源浪费。YMS在数据入库前自动清洗，剔除重复提交、通信错误产生的冗余信息，并将stdf、csv、txt等异构格式统一压缩存储于标准化数据库。集中式管理不仅提升磁盘利用率，还简化备份与维护流程。企业无需为无效数据支付额外硬件成本，也降低了IT运维复杂度。这种“精简有效”的存储策略，在保障数据完整性的前提下实现资源优化。上海伟诺信息科技有限公司将高效数据治理融入YMS设计，助力客户在控制成本的同时构建可持续的数据资产体系。DPAT模块动态调整阈值以适应批次差异，分场景优化测试限设定。河南晶圆Mapping Inkless服务

每周一上午赶制良率周报曾是质量团队的固定负担：手动汇总Excel、调整图表、统一格式，耗时且易出错。YMS内置报表模板可按日、周、月自动生成结构化报告，内容涵盖SYL/SBL卡控状态、区域缺陷对比、时间趋势等关键指标，并支持一键导出为PPT、Excel或PDF。管理层用PPT版直接用于经营会议，客户审计接收标准化PDF文档，工程师则调取Excel原始数据深入挖掘。自动化流程确保全公司使用同一数据口径，避免信息互相影响。报表制作时间从数小时降至几分钟，释放人力资源投入更高价值工作。上海伟诺信息科技有限公司通过灵活报表功能，推动企业决策从“经验驱动”向“数据驱动”转型。四川自动化Mapping Inkless软件Mapping Over Ink处理实现测试通过率与长期可靠性双重保障，平衡质量与产出效率。

面对工厂级良率管理的复杂性，单一数据源或手工报表已难以支撑全局质量洞察。YMS系统整合来自Juno、AMIDA、CTA8280、T861等设备的stdf、xls、log等测试数据，通过自动化清洗与异常过滤，构建全厂统一的良率数据视图。管理者可基于该视图，从时间维度追踪长期趋势，或从空间维度比对不同机台、批次间的性能差异，精确识别瓶颈环节。系统对WAT、CP、FT参数的联动分析，进一步打通从前道到后道的质量链路。SYL与SBL的自动卡控机制，确保关键指标始终处于受控状态。灵活的报表导出功能，则满足从车间班组长到高管的多层次信息需求。上海伟诺信息科技有限公司立足本土半导体发展需求，持续完善YMS系统，推动工厂实现数据驱动的质量跃升。

在半导体制造中，晶圆厂制程的任何微小变动，都可能引起良率与可靠性的风险。其中，一个尤为典型的系统性失效模式，便源于光刻环节的Reticle（光罩）。当Reticle本身存在污染、划伤或设计瑕疵时，或当光刻机在步进重复曝光过程中出现参数漂移（如焦距不准、曝光能量不均）时。这些因Reticle问题而产生的特定区域内的芯片，实质上构成了一个高风险的“潜伏失效群体”。若不能在测试阶段被精确识别并剔除，将直接流向客户端，对产品的长期可靠性与品牌声誉构成严重威胁。识别并处理这类与Reticle强相关的潜在缺陷，是现代高可靠性质量管理中一项极具挑战性的关键任务。

上海伟诺信息科技有限公司在Mapping Over Ink功能中提供了一个Shot Mapping Ink方案，可以将整个Mapping按Reticle大小或是自定义大小的方格，根据设定的算法将整个Shot进行Ink, 从而去除掉因光刻环节的Reticle引起的潜在性失效芯片。通过Shot Mapping Ink方案，用户能够将质量管控的关口从“筛查单个失效芯片”前移至“拦截整个失效风险区域”。这尤其适用于对可靠性要求极严苛的车规、工规等产品，它能极大程度地降低因光刻制程偶发问题导致的批次性可靠性风险，为客户构建起一道应对系统性缺陷的坚固防线。 上海伟诺信息科技Shot Map功能，可以自定义设定Wafer Mapping上Reticle区域并按规则Ink。

为提升晶圆测试（CP测试）的质量与可靠性，行业的关注点已从单一的电性性能测试，扩展到电性与物理外观并重的综合质量评估。因此，越来越多的公司在CP测试环节中，引入外观检测设备（AOI,AutomatedOpticalInspection），对晶圆上每个Die的表面进行高精度、自动化的扫描与检测，以识别并剔除那些存在裂纹、划痕、污染、崩边或缺损等物理缺陷的不良品。这种做法的价值在于，它弥补了传统电性测试的盲区。一颗芯片可能电性参数测试“通过”，但其物理结构已存在潜在损伤。这类“带伤”的芯片在后续的封装应力或终端应用中有极高早期失效的风险，是产品可靠性的重大隐患。通过AOI检测，可以在晶圆阶段就将这些物理不良品精确拦截。
上海伟诺信息科技有限公司提供专业的AOI与Probe Mapping堆叠方案，解决两大关键问题：一是通过数据融合，筛除外观与电性的全部不良品，生成高可靠性的合一Mapping；二是具备优异的兼容性，可将合并后的Mapping直接转换为各类探针台（如TSK、TEL、UF3000等）可识别的格式，实现从质量判定到生产执行的自动化，有效提升品质与效率。上海伟诺信息科技Mapping Bin 转换功能，可以将Wafer Map上指定坐标的芯片进行Ink。江苏半导体MappingOverInk处理服务商

Mapping Over Ink处理系统提供售前咨询与售后标准化服务，保障客户实施体验。河南晶圆Mapping Inkless服务

在半导体制造中，由于Fab制程的物理与化学特性，晶圆边缘的芯片（Edge Die）其失效率明显高于中心区域。这一现象主要源于几个关键因素：首先，在光刻、刻蚀、薄膜沉积等工艺中，晶圆边缘的反应气体流场、温度场及压力场分布不均，导致工艺一致性变差；其次，边缘区域更容易出现厚度不均、残留应力集中等问题；此外，光刻胶在边缘的涂覆均匀性也通常较差。这些因素共同导致边缘芯片的电气参数漂移、性能不稳定乃至早期失效风险急剧升高。因此，在晶圆测试（CP）的制造流程中，对电性测试图谱（Wafer Mapping）执行“去边”操作，便成为一项提升产品整体良率与可靠性的关键步骤。
上海伟诺信息科技有限公司Mapping Over Ink功能中的Margin Map功能提供多种算法与自定义圈数，满足客户快速高效低剔除边缘芯片，可以从根本上避免后续对这些潜在不良品进行不必要的封装和测试，从而直接节约成本，并确保出厂产品的质量与可靠性要求。河南晶圆Mapping Inkless服务

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