芯片制造对良率控制的颗粒度要求极高,任何微小偏差都可能造成重大损失。YMS系统通过自动接入各类Tester平台产生的多格式测试数据,完成高精度的数据解析与整合,确保从晶圆到单颗芯片的良率信息真实可靠。系统依托标准化数据库,支持按时间、区域、批次等多维度进行缺陷聚类与根因追溯,帮助研发与制造团队快速响应异常。结合WAT、CP、FT等关键节点数据的变化,可深入剖析工艺稳定性或设计兼容性问题。SYL与SBL参数的自动计算与卡控,为芯片级质量提供双重保障。报表工具支持按模板生成周期报告,并导出为常用办公格式,提升信息流转效率。上海伟诺信息科技有限公司自2019年成立以来,专注于半导体系统软件研发,其YMS系统正成为国产芯片企业提升产品竞争力的关键助力。上海伟诺信息科技ZPAT功能,通过堆叠Mapping及不同算法帮助用户剔除潜在质量风险的芯片。山东可视化Mapping Inkless服务

芯片制造对良率控制的精度要求极高,YMS系统为此提供了从数据采集到根因分析的一站式解决方案。系统兼容多种测试平台输出的多格式文件,自动完成数据清洗与整合,确保从晶圆到单颗芯片的全链路数据一致性。通过关联WAT、CP、FT等阶段的关键参数,系统可精确识别导致良率下降的工艺或设计问题,并以图表形式展现芯片级缺陷分布与趋势变化。灵活的报表引擎支持按周期自动生成分析简报,便于跨部门协同与持续改进。这种精细化的数据治理能力,使企业在激烈竞争中保持质量优势。上海伟诺信息科技有限公司致力于用专业软件能力赋能中国半导体产业,其YMS系统已成为多家客户提升产品竞争力的重要工具。新疆半导体GDBC系统价格GDBC算法利用聚类分析检测空间聚类型失效模式,精确定位斑点划痕类缺陷。

在半导体设计与制造流程中,良率管理系统的价值体现在对复杂测试数据的高效整合与深度挖掘。系统自动对接多种测试设备输出的异构数据,完成清洗、去重与结构化处理,构建可靠的数据基础。通过对WAT、CP、FT等关键工艺节点参数的联动分析,系统能够揭示潜在的工艺偏差或设计缺陷,为研发和制造团队提供可执行的优化建议。多维度图表直观呈现良率波动与缺陷分布,支持从批次到晶圆级别的精细追溯。报表功能满足不同管理层级对数据呈现的多样化需求,实现从现场到决策层的信息贯通。上海伟诺信息科技有限公司立足“以信为本,以质取胜”的理念,持续打磨YMS产品,推动国产半导体软件生态建设。
国产良率管理系统的价值在于将碎片化测试数据转化为可执行的工艺洞察。YMS系统自动对接ASL1000、SineTest、MS7000、CTA8280、T861、Juno、AMIDA等主流设备,处理十余种格式原始数据,确保从晶圆到芯片级的数据链完整可靠。系统不仅清洗异常记录,还通过图表直观展示良率在不同时间段或晶圆象限的差异。这有助于工程师判断是否为光刻对准偏差或刻蚀不均所致。结合WAT、CP与FT参数联动分析,可区分设计缺陷与制造变异,缩短问题排查周期。这种从“看见异常”到“理解根因”的能力,推动质量改进从被动响应转向主动预防。上海伟诺信息科技有限公司凭借对半导体制造流程的深入理解,推动YMS成为国产替代的关键支撑。多轮重测数据动态更新Mapping Over Ink处理的Ink决策,确保筛选结果实时优化。
为提升晶圆测试(CP测试)的质量与可靠性,行业的关注点已从单一的电性性能测试,扩展到电性与物理外观并重的综合质量评估。因此,越来越多的公司在CP测试环节中,引入外观检测设备(AOI,AutomatedOpticalInspection),对晶圆上每个Die的表面进行高精度、自动化的扫描与检测,以识别并剔除那些存在裂纹、划痕、污染、崩边或缺损等物理缺陷的不良品。这种做法的价值在于,它弥补了传统电性测试的盲区。一颗芯片可能电性参数测试“通过”,但其物理结构已存在潜在损伤。这类“带伤”的芯片在后续的封装应力或终端应用中有极高早期失效的风险,是产品可靠性的重大隐患。通过AOI检测,可以在晶圆阶段就将这些物理不良品精确拦截。
上海伟诺信息科技有限公司提供专业的AOI与Probe Mapping堆叠方案,解决两大关键问题:一是通过数据融合,筛除外观与电性的全部不良品,生成高可靠性的合一Mapping;二是具备优异的兼容性,可将合并后的Mapping直接转换为各类探针台(如TSK、TEL、UF3000等)可识别的格式,实现从质量判定到生产执行的自动化,有效提升品质与效率。客户可复用Mapping Over Ink处理结果进行跨批次对比分析,优化生产工艺。自动化Mapping Inkless流程
高价值芯片生产依赖Mapping Over Ink处理的精确剔除,保障关键器件可靠性。山东可视化Mapping Inkless服务
为满足日益严苛的车规与工规质量要求,在晶圆测试阶段引入三温乃至多温测试,已成为筛选高可靠性芯片的标准流程。这一测试旨在模拟芯片在极端环境下的工作状态,通过高温、常温、低温下的全面性能评估,有效剔除对环境敏感、性能不稳定的潜在缺陷品,从而大幅提升产品的质量与可靠性。因此,如何在海量的多温测试数据中识别并剔除这些因温度敏感性过高而存在潜在风险的芯片,已成为业内高度关注并致力解决的关键课题。
为应对车规、工规产品在多温测试中面临的参数漂移挑战,上海伟诺信息科技有限公司凭借其深厚的技术积累,开发了一套专门用于多温Drift分析的智能化处理方案。该方案的关键在于,超越传统的、在各个温度点进行孤立判定的测试模式,转而通过对同一芯片在不同温度下的参数表现进行动态追踪与关联性分析,从而精确识别并剔除那些对环境过度敏感、性能不稳定的潜在缺陷品。 山东可视化Mapping Inkless服务
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