真空涂覆系统控制

超高真空PVD系统：超纯非团聚纳米颗粒沉积的利器

科睿设备有限公司推出的超高真空（UHV）PVD系统，以“超纯非团聚纳米颗粒直接沉积”为主要优势，彻底革新了纳米材料制备的工艺逻辑。该系统借助先进的真空技术，将真空度控制在极高水平，有效避免了空气中杂质对纳米颗粒的污染，确保沉积过程中纳米颗粒的超纯特性，同时通过优化的沉积机制，防止颗粒团聚，保证每一颗纳米颗粒都能以单独、均匀的状态附着于基材表面。更值得关注的是，系统可兼容直径达50毫米的各类基材，无论是刚性的金属、陶瓷基板，还是柔性的聚合物材料，都能实现精细沉积，极大拓展了应用场景。对于共享研究实验室或教学实验室而言，这一特性尤为重要——不同研究团队可围绕催化材料合成、光子器件制备、储能电极修饰等不同项目并行使用设备，无需担心交叉污染问题，既提升了设备利用率，又降低了科研成本。此外，系统生成的纳米颗粒和薄膜兼具高纯度、高均匀性和良好的稳定性，完美适配工业研发中的性能验证需求和学术研究中的机理探索需求，成为连接基础研究与实际应用的关键技术桥梁。 SPECTRUM 控制软件集成数据记录功能，便于实验过程追溯与分析。真空涂覆系统控制

NL-FLEX多功能沉积系统：全场景基材适配，解锁多元应用可能

NL-FLEX作为科睿设备有限公司旗下明星产品，以“全场景基材兼容+多技术集成”的设计，成为纳米科技领域的多功能创新平台。与传统沉积设备只能适配平面基材不同，NL-FLEX打破了基材类型的限制，能够轻松容纳卷对卷柔性材料、非平面异形件以及粉末状基材，无论是工业生产中批量处理的柔性薄膜，还是科研实验中特殊形状的功能部件，都能实现均匀、高效的纳米颗粒或薄膜沉积。这一优势使得该系统在多个领域展现出强大的应用潜力：在柔性电子领域，可实现柔性基板上的纳米导电层沉积；在生物医药领域，能为非平面医用器件表面修饰生物相容性纳米涂层；在材料科学领域，可对粉末状催化剂进行精细改性。同时，NL-FLEX集成了纳米颗粒沉积、薄膜沉积等多种技术，配合QMS质量过滤器的实时纳米颗粒过滤功能，能够根据不同应用需求灵活切换工艺模式，实现从单一纳米颗粒沉积到复合薄膜制备的多元工艺组合。此外，系统支持自定义配置选项和先进的过程控制功能，用户可根据实验要求调整沉积速率、颗粒尺寸、薄膜厚度等关键参数，进一步提升了工艺的灵活性和准确度，成为工业研发与学术研究中应对复杂需求的理想选择。 台式纳米颗粒沉积系统精度教学实验室中，可直观展示纳米沉积原理，助力学生实践能力培养。

纳米颗粒和薄膜超高真空（UHV）沉积系统的工作原理，是在超高真空环境中，通过特定物理 / 化学机制产生超纯纳米颗粒或薄膜材料，再将其准确、均匀地沉积到目标基材表面，整个过程需实现 “真空环境控制、材料源激发、粒子传输与筛选、基材相互作用” 四大关键环节的协同，获得高纯度、低缺陷、结构可控的纳米级沉积层。

纳米颗粒和薄膜 UHV 沉积系统的应用场景，本质是通过 “超纯、准确、可控” 的纳米制备技术，解决不同领域中 “材料结构调控” 的主要需求 —— 无论是工业研发中提升产品性能（如催化剂活性、电池寿命），还是学术研究中探索材料新机理，其多技术集成、多基材适配的特性，使其成为连接基础研究与实际应用的关键桥梁，服务于高校、科研院所、高科技术企业的创新需求。

涡轮分子泵与干式前级泵的组合泵抽系统，是现代超高真空系统的黄金标准。它能够实现无油污染的洁净真空环境，避免了油扩散泵可能带来的烃类污染风险。干式泵的使用也减少了对维护的需求和对环境的影响，符合现代实验室的环保与自动化要求。系统的可定制选项远不止于此。根据用户的研究方向，我们可以提供不同材质的腔室内衬、针对特定腐蚀性材料优化的沉积源、更高温度的加热器、集成式低温恒温器以及用于连接其他超高真空分析设备的对接法兰等，真正实现“量体裁衣”，满足用户的独特研究构想。沉积结束后，样品需在真空环境下充分冷却后才能取出。

纳米颗粒和薄膜 UHV 沉积系统的工作原理可概括为：以超高真空环境为基础，通过多类型沉积源激发原料产生纳米颗粒或原子蒸汽，经 QMS 质量筛选和传输，使粒子在预处理准确后的基材表面通过物理 / 化学作用形成稳定沉积层，整个过程由自动化系统实时控制，实现高纯度、高均匀性、结构可控的纳米颗粒涂层或薄膜制备。其主要优势在于 “真空环境消除杂质、多源集成适配多元需求、精细筛选确保均一性、实时监测保障可控性”，这也是其能满足科研与工业高科技需求的关键。三头纳米颗粒源结合终止气体冷凝技术，生成超纯非团聚颗粒。无烃纳米涂覆系统采购

迷你电子束蒸发器、磁控溅射源等多模块集成，满足复杂沉积工艺需求。真空涂覆系统控制

真空系统的操作是设备运行的重要组成部分。通常遵循分级抽真空原则：先启动机械泵或干泵抽取低真空，当真空度达到预定阈值后，再启动分子泵或涡轮泵抽取高真空。系统软件通常会集成自动序列，但操作人员需理解其原理，并能监控泵组运行状态和真空计读数，确保系统平稳进入工作真空度。

沉积工艺配方的创建是实验成功的关键。在软件中，用户需要详细设定每一步的参数：包括但不限于基底预热温度与时间、沉积源的启停顺序、溅射源的功率与气体流量、纳米颗粒源的蒸发电流与终止气体压力、以及QCM的设定速率与厚度等。一个严谨的配方应包含充分的预热、稳定和冷却阶段。 真空涂覆系统控制

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