在实际应用中，极测的温控设备已经在众多半导体制造企业中发挥了重要作用。某有名芯片制造企业在引入极测的温控设备后，光刻工艺的精度得到了明显提升。由于温度控制更加精zhun，芯片上的电路图案更加清晰、准确，有效减少了因温度问题导致的图案偏差和缺陷，产品良率大幅提高。现已服务多家芯片半导体前列企业与国家重点实验室。 同时极测（南京）具备全场景非标定制能力。可根据不同客户的需求根据温湿度稳定性、洁净度，以及抗微振、防磁、隔音等个性化参数，进行灵活定制。适用于医疗设备生产中的冷却需求，如激光医疗设备、低温生物样本储存等，同时低噪设计可满足医院环境要求。半导体量测精密温控定制
在光学领域，干涉仪扮演着无可替代的 “基准量具” 角色。其测量精度直接受到工作环境的影响，包括温度、湿度、气压波动等影响因素，尤其是温度控制的细微偏差，都可能成为测量结果失准的 “系统性误差源”。极测（南京）自研生产的精密环控系统，为干涉仪打造稳定的外部运行环境，包括精密温度控制，以及湿度稳定性，气压稳定性，噪声等。同时针对内部腔体区域采用局部气浴的模式，保证内部检测腔环境的稳定性，是许多半导体企业的选择。重庆极测精密温控极测（南京）致力于为全球企业提供定制化的环境控制解决方案，以严格的温湿度与洁净度标准。
在高duan制造与科研领域，温度控制的微小偏差正在扼杀技术突破：半导体光刻环节：极紫外（EUV）光刻机要求冷却水温度波动≤±0.001℃。传统机组温度控制±0.5℃的精度会导致光刻胶形变，造成纳米级线宽偏差，单次工艺损失超$50万。冷冻电镜（Cryo-EM）成像：生物样本温度控制需在-180℃下维持±0.1℃稳定性。温度波动超过阈值会使冰晶破坏蛋白质结构，3D重建分辨率从3Å劣化至8Å，研究成果价值归零。高功率激光加工：光纤激光器温度控制漂移＞±0.02℃时，热透镜效应导致光束焦点偏移20μm，碳钢切割断面粗糙度增加300%，废品率飙升。技术本质：传统水冷机组受限于PID控制滞后性、换热器结垢衰减、单点故障风险，无法满足超精密场景的温度控制“零容忍”需求。
在半导体制造的精密领域，每一个细微的温度变化，都可能对芯片的性能产生重大影响。南京拓展科技旗下企业，极测（南京）作为专业的精密温控设备供应商，其对环境温度控制精度可达 ±0.002℃，洁净度可达一级（优于ISO class1），这一数据在行业内处于前列水平，为更高精度的芯片半导体制造提供了可靠的环境保障。 极测（南京）投入大量资源进行技术研发，致力于为半导体制造提供高精度、高稳定性的温控设备。以其成熟的技术和创新的解决方案，为半导体制造精度构筑起一道坚实的防线。控温精度：提供业界前列的 ±0.002℃高精密温度控制能力，温度水平均匀性严格控制在 <16mK/m 范围内。
湿度稳定性：湿度过高可能导致光学镜片表面结露、金属部件锈蚀、光刻胶特性改变；湿度过低则容易产生静电，吸附尘埃污染晶圆和设备。精确的湿度控制对确保工艺稳定性和材料性能至关重要。3、chao低振动：光刻机在曝光时需要极高的稳定性。任何来自地面（交通、施工、人员走动）、设备自身（空调、泵）或建筑物（风载荷）的振动，都会直接导致光学系统抖动，使投影到硅片上的图形模糊或位置偏移。因此，光刻机通常安装在深达地下的单独地基或高性能主动/被动隔震平台上，甚至采用磁悬浮等技术进行主动减振。 极测（南京）拥有自己的工厂，能够有效地将研发成果转化为实际产品。青海科研实验精密温控
除了温控精度与洁净度，系统蕞高能将湿度稳定性维持在±0.3%RH，压力波动控制在±3Pa以内。半导体量测精密温控定制
高精密环控柜由我司自主研发，是一款精密环境控制产品，可实现ISOClass1-6级洁净度，以及±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.002℃等不同精度的温度波动控制。拥有全场景非标定制能力，能针对用户的个性化需求（如温湿度稳定性、洁净度、抗微振、防磁、隔音等）提供解决方案。设备运行数据实时记录查询，且配备自动安全保护系统，确保长时间运行无忧。其构成部分包括设备主柜体、控制系统、气流循环系统、洁净过滤器、制冷（热）系统、照明系统、局部气浴等，主要为光刻机、激光干涉仪等精密测量与制造设备，提供超高精度的温湿度及洁净度工作环境。湿度控制采用 “外环境保证相对湿度、大环境稳定绝dui含湿量” 的方式，通过精确控温实现环境仓内部湿度稳定。为达成温湿度及洁净度要求，采用大风量小温差设计，通过空气快速循环过滤带走余热，使温度波动保持在极低数值（关键区域 ±0.002℃）；并通过多级控温（先经表冷盘降温，再由多级电加热逐步升温），将温度精度从 ±0.1℃升级至 ±0.002℃。半导体量测精密温控定制
