微纳卫星对部件重量与精度要求苛刻,传统加工难以兼顾。Polos 光刻机在硅基材料上实现了 50nm 深度的微沟槽加工,为某航天团队制造出轻量化星载惯性导航陀螺结构。通过自定义螺旋型振动梁图案,陀螺的零偏稳定性提升至 0.01°/h,较商用产品性能翻倍。该技术还被用于微推进器喷嘴阵列加工,使卫星姿态调整精度达到亚毫牛级,助力我国低轨卫星星座建设取得关键突破。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。德国工艺:精密制造基因,10 年以上使用寿命,维护成本低,设备残值率达 60%。浙江BEAM-XL光刻机分辨率1.5微米

无掩模激光光刻技术为研究实验室提供了一种多功能的纳米/微米光刻工具,可用于创建亚微米级特征,并促进电路和器件的快速原型设计。经济高效的桌面配置使研究人员和行业从业者无需复杂的基础设施和设备即可使用光刻技术。应用范围扩展至微机电系统 (MEM)、生物医学设备和微电子器件的设计和制造,例如以下领域:医疗(包括微流体)、半导体、电子、生物技术和生命科学、先进材料研究。全球无掩模光刻系统市场规模预计在 2022 年达到 3.3606 亿美元,预计到 2028 年将增长至 5.0143 亿美元,复合年增长率为 6.90%。由于对 5G、AIoT、物联网以及半导体电路性能和能耗优化的需求不断增长,预计未来几十年光刻市场将持续增长。北京德国PSP-POLOS光刻机光源波长405微米能源收集:微型压电收集器效率 35%,低频振动发电支持无源物联网。

某智能机器人实验室采用 Polos 光刻机制造了磁控微纳机器人。其激光直写技术在镍钛合金薄膜上刻制出 10μm 的螺旋桨结构,机器人在旋转磁场下的推进速度达 50μm/s,转向精度小于 5°。通过自定义三维运动轨迹,该机器人在微流控芯片中成功实现了单个红细胞的捕获与转运,操作成功率从传统方法的 40% 提升至 85%。其轻量化设计(质量 < 1μg)还支持在活细胞表面进行纳米级手术,相关成果入选《Science Robotics》年度创新技术。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。
Polos系列通过无掩模技术减少化学废料产生,同时低能耗设计(如固态激光光源)符合绿色实验室标准。例如,其光源系统较传统DUV光刻机能耗降低30%,助力科研机构实现碳中和目标。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。低成本科研普惠:桌面化设计减少投入,无掩膜工艺降低中小型实验室门槛。

一家专注于再生医学的科研公司在组织工程支架的研究上,使用德国 Polos 光刻机取得remarkable成果。组织工程支架需要具备特定的三维结构,以促进细胞的生长和组织的修复。Polos 光刻机能够根据预先设计的三维模型,在生物可降解材料上精确制造出复杂的孔隙结构和表面图案。通过该光刻机制造的支架,在动物实验中表现出优异的细胞黏附和组织生长引导能力。与传统制造方法相比,使用 Polos 光刻机生产的支架,细胞在其上的增殖速度提高了 50%,为组织工程和再生医学的临床应用提供了有力支持。固态电池:锂金属界面阻抗降至 50Ω・cm²,电池循环寿命提升 3 倍。北京德国PSP-POLOS光刻机光源波长405微米
用户案例broad:全球超500家科研机构采用,覆盖高校、研究所与企业实验室。浙江BEAM-XL光刻机分辨率1.5微米
某revolution生物医学研究机构致力于开发快速、precise的疾病诊断技术。在研发一种用于早期tumor筛查的微流体诊断芯片时,采用了德国 Polos 光刻机。利用其无掩模激光光刻技术,科研团队成功制造出拥有复杂微通道网络的芯片。这些微通道能精确控制生物样本与检测试剂的混合及反应过程,极大提高了检测的灵敏度和准确性。以往使用传统光刻技术制备此类芯片,不only周期长,且精度难以保证。而 Polos 光刻机使制备周期缩短了近三分之一,助力该机构在tumor早期诊断研究上取得重大突破,相关成果已发表在国际authority医学期刊上。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。浙江BEAM-XL光刻机分辨率1.5微米
Polos系列通过无掩模技术减少化学废料产生,同时低能耗设计(如固态激光光源)符合绿色实验室标准。例如,其光源系统较传统DUV光刻机能耗降低30%,助力科研机构实现碳中和目标。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提...