

作为东莞松山湖的企业,吉田半导体深耕光刻胶领域 23 年,成功研发出 YK-300 半导体正性光刻胶与 JT-2000 纳米压印光刻胶。YK-300 适用于 45nm 及以上制程,线宽粗糙度(LWR)≤3nm,良率达 98% 以上,已通过中芯国际等晶圆厂验证;JT-2000 突破耐高温极限,在 250℃复杂环境下仍保持图形稳定性,适用于 EUV 光刻前道工艺。依托进口原材料与全自动化生产工艺,产品通过 ISO9001 认证及欧盟 RoHS 标准,远销全球并与跨国企业建立长期合作,加速国产替代进程。
以无卤无铅配方与低 VOC 工艺为,吉田半导体打造环保光刻胶,助力电子产业低碳转型。面对全球环保趋势,吉田半导体推出无卤无铅锡膏与焊片,通过欧盟 RoHS 认证,焊接可靠性提升 30%。其 LCD 光刻胶采用低 VOC 配方(<50g/L),符合欧盟 REACH 法规,生产过程中通过多级废气处理与水循环系统,实现零排放。公司严格执行 8S 现场管理,工业固废循环利用率超 90%,为新能源汽车、光伏储能等领域提供绿色材料解决方案,成为全球客户信赖的环保材料供应商。半导体材料选吉田,欧盟认证,支持定制化解决方案!

负性光刻胶的工艺和应用场景。厦门LCD光刻胶感光胶
广东吉田半导体材料有限公司,坐落于松山湖经济技术开发区,是半导体材料领域的一颗璀璨明珠。公司注册资本 2000 万元,专注于半导体材料的研发、生产与销售,是国家高新技术企业、广东省专精特新企业以及广东省创新型中小企业。
强大的产品阵容:吉田半导体产品丰富且实力强劲。芯片光刻胶、纳米压印光刻胶、LCD 光刻胶精细满足芯片制造、微纳加工等关键环节需求;半导体锡膏、焊片在电子焊接领域性能;靶材更是在材料溅射沉积工艺中发挥关键作用。这些产品远销全球,与众多世界 500 强企业及电子加工企业建立了长期稳固的合作关系。
雄厚的研发生产实力:作为一家拥有 23 年研发与生产经验的综合性企业,吉田半导体具备行业前列规模与先进的全自动化生产设备。23 年的深耕细作,使其在技术研发、工艺优化等方面积累了深厚底蕴,能够快速响应市场需求,不断推出创新性产品。
严格的质量管控:公司始终将品质视为生命线,严格按照 ISO9001:2008 质量体系标准监控生产制程。生产环境执行 8S 现场管理,从源头抓起,所有生产材料均选用美国、德国、日本等国家进口的高质量原料,确保客户使用到超高质量且稳定的产品。 厦门LCD光刻胶感光胶
《电子束光刻胶:纳米科技与原型设计的利器》**内容: 介绍专为电子束曝光设计的光刻胶(如PMMA、HSQ、ZEP)。扩展点: 工作原理(电子直接激发/电离)、高分辨率优势(可达纳米级)、应用领域(科研、掩模版制作、小批量特殊器件)。《光刻胶材料演进史:从沥青到分子工程》**内容: 简述光刻胶从早期天然材料(沥青、重铬酸盐明胶)到现代合成高分子(DNQ-酚醛、化学放大胶、EUV胶)的发展历程。扩展点: 关键里程碑(各技术节点对应的胶种突破)、驱动力(摩尔定律、光源波长缩短)。光刻胶涂布工艺需控制厚度均匀性,为后续刻蚀奠定基础。济南油性光刻胶工厂金属氧化物光刻胶:EUV时代的潜力股基本原理:金属氧...