企业商机
光刻机基本参数
  • 品牌
  • POLOS
  • 型号
  • BEAM
  • 类型
  • 激光蚀刻机
光刻机企业商机

某能源研究团队采用 Polos 光刻机制造了压电式微型能量收集器。其激光直写技术在 PZT 薄膜上刻制出 50μm 的叉指电极,器件的能量转换效率达 35%,在 10Hz 振动下可输出 50μW/cm² 的功率。通过自定义电极间距和厚度,该收集器可适配不同频率的环境振动,在智能穿戴设备中实现了运动能量的实时采集与存储。其轻量化设计(体积 < 1mm³)还被用于物联网传感器节点,使传感器续航时间从 3 个月延长至 2 年。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。图案灵活性:支持 STL 模型直接导入,30 分钟完成从设计到曝光全流程。广东德国POLOS桌面无掩模光刻机分辨率1.5微米

广东德国POLOS桌面无掩模光刻机分辨率1.5微米,光刻机

在organ芯片研究中,模拟人体organ微环境需要微米级精度的三维结构。德国 Polos 光刻机凭借无掩模激光光刻技术,帮助科研团队在 PDMS 材料上构建出仿生血管网络与组织界面。某再生医学实验室使用 Polos 光刻机,成功制备出肝芯片微通道,其内皮细胞黏附率较传统方法提升 40%,且可通过软件实时调整通道曲率,precise模拟肝脏血流动力学。该技术缩短了organ芯片的研发周期,为药物肝毒性测试提供了更真实的体外模型,相关成果入选《自然・生物技术》年度创新技术案例。广东德国POLOS桌面无掩模光刻机分辨率1.5微米Polos-BESM 光刻机:无掩模激光技术,成本降低 50%,任意图案轻松输入,适配实验室微纳加工。

广东德国POLOS桌面无掩模光刻机分辨率1.5微米,光刻机

在tumor转移机制研究中,某tumor研究中心利用 Polos 光刻机构建了仿生tumor微环境芯片。通过无掩模激光光刻技术,在 PDMS 基底上制造出三维tumor血管网络与间质纤维化结构,其中血管直径可精确控制在 10-50μm。实验显示,该芯片模拟的tumor微环境中,tumor细胞迁移速度较传统二维培养提升 2.3 倍,且化疗药物渗透效率降低 40%,与临床数据高度吻合。该团队通过软件实时调整通道曲率和细胞外基质密度,成功复现了tumor细胞上皮 - 间质转化(EMT)过程,相关成果发表于《Cancer Research》,并被用于新型抗转移药物的筛选平台开发。

单细胞分选需要复杂的流体动力学控制结构,传统光刻难以实现多尺度结构集成。Polos 光刻机的分层曝光功能,在同一片芯片上制备出 5μm 窄缝的细胞捕获区与 50μm 宽的废液通道,通道高度误差控制在 ±2% 以内。某细胞生物学实验室利用该芯片,将单细胞分选通量提升至 1000 个 / 秒,分选纯度达 98%,较传统流式细胞仪体积缩小 90%。该技术已应用于循环tumor细胞检测,使稀有细胞捕获效率提升 3 倍,相关设备进入临床验证阶段。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。无掩模技术优势:摒弃传统掩模,图案设计实时调整,研发成本直降 70%。

广东德国POLOS桌面无掩模光刻机分辨率1.5微米,光刻机

在微流体研究领域,德国 Polos 光刻机系列凭借独特优势脱颖而出。其无掩模激光光刻技术,打破传统光刻的局限,无需掩模就能实现高精度图案制作。这使得科研人员在构建微通道网络时,可根据实验需求自由设计,快速完成从图纸到实体的转化。​以药物传输研究为例,利用 Polos 光刻机,能制造出尺寸precise、结构复杂的微通道,模拟人体环境,让药物在微小空间内可控流动,much提升药物传输效率研究的准确性。同时,在细胞培养实验中,该光刻机制作的微流体芯片,为细胞提供稳定且适宜的生长环境,助力细胞生物学研究取得新突破。小空间大作为的 Polos 光刻机,正推动微流体研究不断向前。Polos-BESM XL:加大加工幅面,满足中尺寸器件一次性成型需求。江苏BEAM-XL光刻机让你随意进行纳米图案化

用户案例broad:全球超500家科研机构采用,覆盖高校、研究所与企业实验室。广东德国POLOS桌面无掩模光刻机分辨率1.5微米

德国 Polos 光刻机系列以其紧凑的设计,在有限的空间内发挥着巨大作用。对于研究实验室,尤其是空间资源紧张的高校和初创科研机构来说,设备的空间占用是重要考量因素。Polos 光刻机占用空间小的特点,使其能够轻松融入各类实验室环境。​ 尽管体积小巧,但它的性能却毫不逊色。无掩模激光光刻技术保障了高精度的图案制作,低成本的优势降低了科研投入门槛。在小型实验室中,科研人员使用 Polos 光刻机,在微流体、电子学等领域开展研究,成功取得多项成果。从微纳结构制造到新型器件研发,Polos 光刻机证明了小空间也能蕴藏大能量,为科研创新提供有力支持。广东德国POLOS桌面无掩模光刻机分辨率1.5微米

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Polos系列通过无掩模技术减少化学废料产生,同时低能耗设计(如固态激光光源)符合绿色实验室标准。例如,其光源系统较传统DUV光刻机能耗降低30%,助力科研机构实现碳中和目标。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提...

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