面接触式二极管。面接触式PN结二极管是由一块半导体晶体制成的。不同的掺杂工艺可以使同一个半导体(如本征硅)的一端成为一个包含负极性载流子(电子)的区域,称作N型半导体;另一端成为一个包含正极性载流子(空穴)的区域,称作P型半导体。两种材料在一起时,电子会从N型一侧流向P型一侧。这一区域电子和空穴相互抵销,造成中间区域载流子不足,形成“耗尽层”。在耗尽层内部存在“内电场”:N型侧带正电,P型侧带负电。两块区域的交界处为PN结,晶体允许电子(外部来看)从N型半导体一端,流向P型半导体一端,但是不能反向流动。正确安装和调试二极管,可以确保电路的稳定运行和延长器件的使用寿命。江门变容二极管制造
半导体二极管的非线性电流-电压特性,可以根据选择不同的半导体材料和掺杂不同的杂质从而形成杂质半导体来改变。特性改变后的二极管在使用上除了用做开关的方式之外,还有很多其他的功能,如:用来调节电压(齐纳二极管),限制高电压从而保护电路(雪崩二极管),无线电调谐(变容二极管),产生射频振荡(隧道二极管、耿氏二极管、IMPATT二极管)以及产生光(发光二极管)。半导体二极管中,有利用P型和N型两种半导体接合面的PN结效应,也有利用金属与半导体接合产生的肖特基效应达到整流作用的类型。若是PN结型的二极管,在P型侧就是阳极,N型侧则是阴极。东莞发光二极管供应二极管具有快速开关速度的优势,适用于高频应用。
二极管反向区也分两个区域:当VBR<V<0时,反向电流很小,且基本不随反向电压的变化而变化,此时的反向电流也称反向饱和电流IS。当V≥VBR时,反向电流急剧增加,VBR称为反向击穿电压。在反向区,硅二极管和锗二极管的特性有所不同。硅二极管的反向击穿特性比较硬、比较陡,反向饱和电流也很小;锗二极管的反向击穿特性比较软,过渡比较圆滑,反向饱和电流较大。从击穿的机理上看,硅二极管若|VBR|≥7 V时,主要是雪崩击穿;若VBR≤4 V则主要是齐纳击穿,当在4 V~7 V之间两种击穿都有,有可能获得零温度系数点。
在电子工程领域,二极管作为基础的电子元件,其种类繁多,功能各异。其中,稳压二极管和普通二极管因其独特的特性和应用场景而备受关注。本文将详细比较稳压二极管与普通二极管的不同之处,以便读者更好地理解和应用这两种元件。功能区别,稳压二极管,也被称为齐纳二极管,其主要功能是维持电路中的稳定电压值。它利用PN结反向击穿状态,在电流可在很大范围内变化时保持电压基本不变,从而实现稳压功能。这种特性使得稳压二极管在电路中起到了关键的稳定作用,为电子设备提供了可靠的电压支撑。相比之下,普通二极管则主要作为一个开关器件或整流器使用。在正向电压下,普通二极管导通,允许电流通过;而在反向电压下,则截止,阻止电流通过。这种单向导电性使得普通二极管在开关电路和整流电路中发挥着重要作用。二极管可用于电源、信号处理等领域,具有普遍的应用。
光电二极管,光电二极管又称光敏二极管,英文名称为Photo-Diode,光电二极管是在反向电压作用之下工作的,在一般照度的光线照射下,所产生的电流叫光电流。如果在外电路上接上负载,负载上就获得了电信号,而且这个电信号随着光的变化而相应变化。光电二极管和发光二极管外形很像,只不过前者是被动接受光源导通电路,后者是主动发出光源,因此光电二极管的发光方向是向内的,表示是外部照时进来的光源,原理图库和发光二极管有点不同。硅二极管和锗二极管的工作温度范围和耐压能力不同,需要根据具体要求选择。江门阻尼二极管参数
二极管在逆向电压下要避免击穿,以防损坏器件。江门变容二极管制造
反向击穿按机理分为齐纳击穿和雪崩击穿两种情况。在高掺杂浓度的情况下,因势垒区宽度很小,反向电压较大时,破坏了势垒区内共价键结构,使价电子脱离共价键束缚,产生电子-空穴对,致使电流急剧增大,这种击穿称为齐纳击穿。如果掺杂浓度较低,势垒区宽度较宽,不容易产生齐纳击穿。雪崩击穿,另一种击穿为雪崩击穿。当反向电压增加到较大数值时,外加电场使电子漂移速度加快,从而与共价键中的价电子相碰撞,把价电子撞出共价键,产生新的电子-空穴对。新产生的电子-空穴被电场加速后又撞出其它价电子,载流子雪崩式地增加,致使电流急剧增加,这种击穿称为雪崩击穿。无论哪种击穿,若对其电流不加限制,都可能造成PN结长久性损坏。江门变容二极管制造