大工业烤箱批发

下面为大家介绍一下石墨盘烤盘炉

一.产品介绍

真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂层石墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。

二、设计特点

1、后门设计热风电机

2、降温时风机开启，同时两端降温封头开启，炉膛内产生如图所示的气体流向

3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换，达到快速降温的目的

三、技术指标

1、使用温度：1450℃；比较高温度：1500℃；

2、绝热材料：石墨纤维毯、石墨纸；

4、加热元件：石墨加热棒；

5、冷却方式：气冷 + 循环风冷降温；

6、控温稳定度：±2℃，具有PID参数自整定功能；

7、炉膛温度均匀度：±5℃（恒温1500℃）；

8、气氛: 可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%；

9、极限真空: 10-3torr级；

10、抽气速率：空载下，30min达到10-2torr

11、升温功率：170kW；

12、升温速率：15℃/min（空载）；

13、降温速率：1450℃至80℃,240分钟

14、腔体尺寸：1000*1000*1000mm（宽*深*高） 合肥真萍科技为您提供专业的售后服务！大工业烤箱批发

中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理。

一、热工系统

1.额定温度 800℃

2.较高温度 850℃

3.加热元件 陶瓷外丝加热管

4.加热功率 18kw

5.空炉保温功率 约 9kw

6.温区个数 1 个

7.控温点数 2 点

8.热偶 K 分度

9.控温稳定度 ±1℃(恒温平台)

10.炉膛温度均匀度 ±6℃（恒温 800℃,1h）

二、气氛系统

1.炉膛气氛 2 路氮气，流量计量程为 2～20L/min；每路流量可调节

2.排气系统 在炉膛顶部设置一个排气囱，用于废气排放，废气

3.经过水封清洗后进入大气中，减少对环境污染

4.氧含量 配氧含量分析仪分析氧含量：

5.高温状态氧含量≤10ppm+气源氧含量

6.低温状态氧含量≤50ppm+气源氧含量

三、冷却系统

1.冷却结构 无

2.产品降温 随炉降温

3.安全保护

4.报警指示 超温、断偶、停水、停气等声光报警保护

5.设备安全升温速率 ≤5℃/min

四、温度控制系统

1.温度测量 采用 K 分度热偶测量

2.控制仪表 采用进口智能调节仪控制。具有 PID 参数自整定、高温

3.上限报警、热电偶失效指示等多项报警保护功能

4.控制方式 固态继电器过零控制

5.超温处理 ⑴.当测量温度超过设定的安全值时，断加热，并报警。

⑵.当测量温度超过目标温度达到安全偏差值时，报警。 合肥生产工业烤箱合肥真萍科技工业烤箱，****。

中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理。

一、热工系统

1.额定温度 800℃

2.较高温度 850℃

3.加热元件 陶瓷外丝加热管

4.加热功率 18kw

5.空炉保温功率 约 9kw

6.温区个数 1 个

7.控温点数 2 点

8.热偶 K 分度

9.控温稳定度 ±1℃(恒温平台)

10.炉膛温度均匀度 ±6℃（恒温 800℃,1h）

二、气氛系统

1.炉膛气氛 2 路氮气，流量计量程为 2～20L/min；每路流量可调节

2.排气系统 在炉膛顶部设置一个排气*囱，用于废气排放，废气

3.经过水封清洗后进入大气中，减少对环境污染

4.氧含量 配氧含量分析仪分析氧含量：

5.高温状态氧含量≤10ppm+气源氧含量

6.低温状态氧含量≤50ppm+气源氧含量

三、冷却系统

1.冷却结构 无

2.产品降温 随炉降温

3.安全保护

4.报警指示 超温、断偶、停水、停气等声光报警保护

5.设备安全升温速率 ≤5℃/min

四、温度控制系统

1.温度测量 采用 K 分度热偶测量

2.控制仪表 采用进口智能调节仪控制。具有 PID 参数自整定、高温

3.上限报警、热电偶失效指示等多项报警保护功能

4.控制方式 固态继电器过零控制

5.超温处理 ⑴.当测量温度超过设定的安全值时，断加热，并报警。

⑵.当测量温度超过目标温度达到安全偏差值时，报警。

真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏，解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线，解决液晶的受潮问题，解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜。

洁净节能氮气柜的过滤系统：

2.1 EBM 电子式EC 马达控制无尘室**FFU。

2.2 镜面不锈钢结构体。

2.3 特殊导流风道设计，风压平均，可有效提供风量，降低噪音。

2.4 电路板控制模块，提供安 全保护装置，运转异常指示灯及控制干接点输出。

2.5 无段式风量调速器可任意调整风量大小。

2.6 滤网ULPA，0.12μm，99.9995%以上的过滤效果。

2.7 电力格：单相220V 50Hz 0.95A，输出功率150W。

洁净节能氮气柜的柜体规格、配备：

1.左右双开门，3mm钢化玻璃，1mm厚不锈钢板，气密式隐藏锁把手。

2.柜体密封高吸附力磁性胶条与柜体密闭，脚垫采高承载车轮及调整高低脚垫。

3. 附高载重不锈钢隔板，柜体加装高载重煞车轮。

4.上掀式气密盖，方便 FFU保养及维修。

5.回风循环设计，单向氮气循环不产生紊流。

6.背面气密开门式设计，方便洁净清理与保养。 合肥真萍科技工业烤箱值得推荐。

HMDS 预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。

  增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。 工业烤箱选购应该注意哪些呢？合肥真萍科技告诉您。大工业烤箱批发

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石墨盘烤盘炉

一.产品介绍

真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂层石墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。

二、设计特点

1、后门设计热风电机

2、降温时风机开启，同时两端降温封头开启，炉膛内产生如图所示的气体流向

3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换，达到快速降温的目的

三、技术指标

1、使用温度：1450℃；比较高温度：1500℃；

2、绝热材料：石墨纤维毯、石墨纸；

4、加热元件：石墨加热棒；

5、冷却方式：气冷 + 循环风冷降温；

6、控温稳定度：±2℃，具有PID参数自整定功能；

7、炉膛温度均匀度：±5℃（恒温1500℃）；

8、气氛: 可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%；

9、极限真空: 10-3torr级；

10、抽气速率：空载下，30min达到10-2torr

11、升温功率：170kW；

12、升温速率：15℃/min（空载）；

13、降温速率：1450℃至80℃,240分钟

14、腔体尺寸：1000*1000*1000mm（宽*深*高） 大工业烤箱批发

合肥真萍电子科技有限公司总部位于合肥市经济技术开发区轩辕路89号，是一家电子产品，电子设备及配件，半导体设备及配件，半导体耗材，办公设备研发及销售。真萍科技(真萍微电子装备)是专业从事烘烤制程设备，半导体黄光区**设备，环境与可靠性试验设备,电镀清洗设备，防潮防氧化专业设备等产品的生产和销售供应厂商，是以一批多年从事环境试验设备、防潮防氧化设备,半导体黄光区**设备，电镀清洗设备等行业的专业工程技术人员，具有设计、制造、销售及售后服务能力的综合性企业。的公司。真萍电子深耕行业多年，始终以客户的需求为向导，为客户提供***的洁净箱，干燥箱，高温无氧烤箱，隧道炉。真萍电子继续坚定不移地走高质量发展道路，既要实现基本面稳定增长，又要聚焦关键领域，实现转型再突破。真萍电子创始人安小敏，始终关注客户，创新科技，竭诚为客户提供良好的服务。