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石墨盘烤盘炉

一.产品介绍

真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂层石墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。

二、设计特点

1、后门设计热风电机

2、降温时风机开启，同时两端降温封头开启，炉膛内产生如图所示的气体流向

3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换，达到快速降温的目的

三、技术指标

1、使用温度：1450℃；比较高温度：1500℃；

2、绝热材料：石墨纤维毯、石墨纸；

4、加热元件：石墨加热棒；

5、冷却方式：气冷 + 循环风冷降温；

6、控温稳定度：±2℃，具有PID参数自整定功能；

7、炉膛温度均匀度：±5℃（恒温1500℃）；

8、气氛: 可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%；

9、极限真空: 10-3torr级；

10、抽气速率：空载下，30min达到10-2torr

11、升温功率：170kW；

12、升温速率：15℃/min（空载）；

13、降温速率：1450℃至80℃,240分钟

14、腔体尺寸：1000*1000*1000mm（宽*深*高） 真萍科技为您提供定制各种尺寸工业烤箱。淮安工业烤箱卖

高温钟罩炉设备规格及结构

炉膛结构 ：采用多晶莫来石材料砌筑而成

外形尺寸：W1300×H2200×D1510 (mm)

一、热工系统

1.1额定温度 ：1550℃

1.2限制温度 ：1600℃

1.3加热元件： U 型硅钼棒

1.4加热功率 ：16kW

1.5空炉保温功率 ≤8kW

1.6温区个数 ：1 个

1.7控温点数 ：1 点

1.8热偶 :B 分度

1.9程序**精度 ：±2℃（大于 600℃,升温速率≤3℃/min）

二、气氛系统

2.1炉膛气氛 ：2 路空气，流量计量程为 7～70L/min；每路流量可调节

2.2排气系统： 在炉膛顶部设置一个排气*囱，用于废气排放

三、传动系统

3.1传动方式 ：升降式

3.2传动类型 ：电动推杆传动

3.3容积 ：20L  

四、冷却系统

4.1冷却结构 ：无

4.2产品降温 ：随炉降温

五、安全保护

5.1升、降、停按钮 ：载料台的升、降、停控制

5.2报警指示：超温、断偶、过载、超程、偏差等声光报警

5.3设备安全升温速率 ≤5℃/min

六、温度控制系统

6.1温度测量:采用 B 分度热偶测量

6.2控制方式：高性能移相调压+SCR 晶闸管模块控制

6.3限温处理 ：

6.3.1当测量温度超过设定的安全值时，断加热，并报警

6.3.2当测量温度超过目标温度达到限制偏差值时，报警

6.4控制仪表：采用进口智能调节仪控制。具有 PID 参数自整定、高 温上限报警、热电偶失效指示等多项报警保护功能 淮安工业烤箱卖为您推荐工业烤箱的专业生产厂家。

下面为大家简单介绍一下洁净烘箱

本产品是参照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造，普遍应用于电子液晶显示，LCD,CMOS,IC，医药实验室等生产及科研部门。

技术指标：

1 无尘等级：Class100：（符合FED-STD 209E标准：0.3um≤300个0.5≤100个）

2温度范围：+60℃~ +250℃（极限温度350℃）

3温度均匀性：±2℃（空箱测试）

4温度精确度：±1℃（空箱测试）

5设备型号规格:

450*450*450450*600*450600*800*600600*700*600;700*900*700;700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;1000*1300*1000;1000*1400*1000;

洁净烘箱，本产品是参照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造，广泛应用于电子液晶显示，LCD,CMOS,IC，医药实验室等生产及科研部门。

箱体结构：

1烘箱总体由箱体部分，电气控制柜部分，电加热部分，风道部分，尘埃物过滤部分，

N2 进气排气及风冷部分等组装而成，结构合理，功能实用。

2外箱材料:外箱采用SS41#中碳钢板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆可防

止微尘，内胆材料：采进口SUS304#2mm不锈钢板全周氩焊,并经碱性苏打水清洁有效的防止了机台本身灰尘的产生。

3保温材料：采用正厂**玻璃纤维公司出品的100K级高密度保温板填充，有效的防止了热能浪费。

4电热部分：采用进口覆套式电热器（SHEATHED HEATER）无尘无氧化电热发生器

5风道部分：整体结构采用了水平送风的方式由左向右送风后经美国进口H.E.P.A，(特殊风道设计)过滤效果可达99.99%,Class100；

可靠先进的测控系统

1温度控制装置：日本进口温控器，内置PID自动整定，斜率设定功能

2温度控制方式为SSR固态继电器功率调整输出，温度采集探头为特制铠装K型热电偶

3温度监控装置：采用日本六通道巡回检测 有纸记录仪，可将烤箱内实时环境温度进行检测打印。

广泛应用于电子液晶显示，LCD,CMOS,IC，医药实验室等生产及科研部门。

HMDS真空烤箱主要技术指标：

1. 机外壳采用冷扎钢板喷塑处理，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。

2. 箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。

3. 微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。

4. 智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。

5.HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。整个系统采用质量材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。

6 HMDS管路加热功能，使HMDS液体进入箱体的前端管路加热，使转为HMDS气态时更易。

7. 低液报警装置，采用红外液体感测器，能及时灵敏给出指令（当HMDS液过低时发出报警及及时切断工作起动功能）

8. 温度与PLC联动保护功能（当PLC没有启动程序时，加温功能启动不了，相反加温功能启动时，PLC程序不按正常走时也及时切断工作功能，发出警报）

9.整个箱体及HMDS气体管路采用SUS316不锈钢材料，整体使用无缝焊接（避免拼接导致HMDS液体腐蚀外泄对人体的伤害）

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