半导体探测器是60年代以来迅速发展起来的一种新型的射线探测器。它经常被应用于各个领域，不同类型的半导体探测器在不同的方面都有其自身的特点。按形成半导体探测器PN结的方法，可将其分为两种：离子注入型和表面位垒型。离子注入半导体探测器在我国尚未被普遍使用，其辐射剂量特性正在开发当中，因而有很大的研究空间。钝化离子注入平面硅 (Pas-sivated Implanted Planar Silian，简称PIPS) 探测器，是半导体钝化离子注入的新工艺产品。 南京alpha谱仪推荐咨询alpha能谱仪目前已经在国内市场占有优势，有很多应用案例并得到用户的认可。
仪器需要定期检查和维护，查看腔室清洁：探测腔室在使用过程中请注意清洁，如果有样品洒落腔室，请用无尘布沾酒精进行擦拭。真空泵：真空泵中的油雾可支持真空泵连续工作三个月，请定期查看泵油的余量，泵油低于标准线时要及时添加泵油。油雾过滤器中的滤网，根据实际使用情况（过滤网中的油雾水平），需要进行更换。测量腔室：使用过程中压力升不上去，无法达到真空情况下，请查看该测量通道的门是否已管好，可再次关闭并向内按压门。样品测量完毕，应从测量腔室取出另行存放，避免污染探测器。
PA系列有以下功能特点：采用离子注入型硅探测器 (PIPS)，探测室、前放、主放、多道一体化；采用容易扩展的模块化结构；各路拥有**的信号放大系统，完全由计算机程序控制；探测器到样品距离分档可调：10 ～ 65mm，共 14 档调节；多道分析器分档可调，具有死时间校正功能；设置清洁的排气端口，减少测量室内湿气和污染物的积累；计算机程序精密控制，真空度实时显示；可在 Windows 系统下运行，全中文用户界面简单明了；界面可同时显示多个测量窗口，也可选择单个测量窗口放大显示；应急应用中，可以在未建立真空状态时进行测量。
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谱分析中效率刻度是定量分析的重要前提。效率刻度后可对所测样品进行定性分析。用户可以填写效率刻度相关信息，点击“加入刻度”，点击“拟合函数”，进行拟合。点击使用刻度应用于当前谱图。点击“打开刻度”可调用已保存的刻度，进行应用。
谱分析中的感兴趣区域，用户可以根据谱图信息，添加新的区域并保存当前区域信息。若后续有需求可点击“打开区域”，调用已保存的区域。如果已添加的区域不再需要，将光标放置在需要删除的区域，点击“删除区域”即可。
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