
半导体探测器是60年代以来迅速发展起来的一种新型的射线探测器。它经常被应用于各个领域,不同类型的半导体探测器在不同的方面都有其自身的特点。按形成半导体探测器PN结的方法,可将其分为两种:离子注入型和表面位垒型。离子注入半导体探测器在我国尚未被普遍使用,其辐射剂量特性正在开发当中,因而有很大的研究空间。钝化离子注入平面硅 (Pas-sivated Implanted Planar Silian,简称PIPS) 探测器,是半导体钝化离子注入的新工艺产品。 南京alpha谱仪推荐咨询alpha能谱仪目前已经在国内市场占有优势,有很多应用案例并得到用户的认可。

仪器需要定期检查和维护,查看腔室清洁:探测腔室在使用过程中请注意清洁,如果有样品洒落腔室,请用无尘布沾酒精进行擦拭。真空泵:真空泵中的油雾可支持真空泵连续工作三个月,请定期查看泵油的余量,泵油低于标准线时要及时添加泵油。油雾过滤器中的滤网,根据实际使用情况(过滤网中的油雾水平),需要进行更换。测量腔室:使用过程中压力升不上去,无法达到真空情况下,请查看该测量通道的门是否已管好,可再次关闭并向内按压门。样品测量完毕,应从测量腔室取出另行存放,避免污染探测器。

PA系列有以下功能特点:采用离子注入型硅探测器 (PIPS),探测室、前放、主放、多道一体化;采用容易扩展的模块化结构;各路拥有**的信号放大系统,完全由计算机程序控制;探测器到样品距离分档可调:10 ~ 65mm,共 14 档调节;多道分析器分档可调,具有死时间校正功能;设置清洁的排气端口,减少测量室内湿气和污染物的积累;计算机程序精密控制,真空度实时显示;可在 Windows 系统下运行,全中文用户界面简单明了;界面可同时显示多个测量窗口,也可选择单个测量窗口放大显示;应急应用中,可以在未建立真空状态时进行测量。
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谱分析中效率刻度是定量分析的重要前提。效率刻度后可对所测样品进行定性分析。用户可以填写效率刻度相关信息,点击“加入刻度”,点击“拟合函数”,进行拟合。点击使用刻度应用于当前谱图。点击“打开刻度”可调用已保存的刻度,进行应用。
谱分析中的感兴趣区域,用户可以根据谱图信息,添加新的区域并保存当前区域信息。若后续有需求可点击“打开区域”,调用已保存的区域。如果已添加的区域不再需要,将光标放置在需要删除的区域,点击“删除区域”即可。
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