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在半导体和微机电系统制造中,光刻胶在完成图形转移后需要被彻底去除。等离子清洗机利用氧等离子体与光刻胶发生剧烈的氧化反应,能将其分解为二氧化碳和水蒸气,实现高效、均匀、无残留的剥离,且对底层器件无损伤。在半导体和微机电系统制造中,光刻胶在完成图形转移后需要被彻底去除。等离子清洗机利用氧等离子体与光刻胶发生剧烈的氧化反应,能将其分解为二氧化碳和水蒸气,实现高效、均匀、无残留的剥离,且对底层器件无损伤。等离子清洗设备设备能均匀高效地处理三维物体。

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