上海MappingOverInk处理软件

每日晨会前临时整理良率报表，常因数据口径不一引发争议。YMS系统按预设模板自动生成日报、周报、月报，内容涵盖良率趋势、区域缺陷分布、WAT/CP/FT关联分析等关键指标，并支持一键导出为PPT、Excel或PDF格式。生产主管可用PPT版直接汇报，质量工程师调取Excel原始数据深入挖掘，客户审计则接收标准化PDF文档。自动化流程消除手工汇总误差，确保全公司使用同一套可靠数据。报告生成时间从数小时压缩至分钟级，大幅提升跨部门协同效率。上海伟诺信息科技有限公司通过灵活报表工具，让数据真正服务于决策闭环。工艺工程师基于GDBC聚类结果优化制程参数，提升制造良率水平。上海MappingOverInk处理软件

在半导体制造中，晶圆厂制程的任何微小变动，都可能引起良率与可靠性的风险。其中，一个尤为典型的系统性失效模式，便源于光刻环节的Reticle（光罩）。当Reticle本身存在污染、划伤或设计瑕疵时，或当光刻机在步进重复曝光过程中出现参数漂移（如焦距不准、曝光能量不均）时。这些因Reticle问题而产生的特定区域内的芯片，实质上构成了一个高风险的“潜伏失效群体”。若不能在测试阶段被精确识别并剔除，将直接流向客户端，对产品的长期可靠性与品牌声誉构成严重威胁。识别并处理这类与Reticle强相关的潜在缺陷，是现代高可靠性质量管理中一项极具挑战性的关键任务。

上海伟诺信息科技有限公司在Mapping Over Ink功能中提供了一个Shot Mapping Ink方案，可以将整个Mapping按Reticle大小或是自定义大小的方格，根据设定的算法将整个Shot进行Ink, 从而去除掉因光刻环节的Reticle引起的潜在性失效芯片。通过Shot Mapping Ink方案，用户能够将质量管控的关口从“筛查单个失效芯片”前移至“拦截整个失效风险区域”。这尤其适用于对可靠性要求极严苛的车规、工规等产品，它能极大程度地降低因光刻制程偶发问题导致的批次性可靠性风险，为客户构建起一道应对系统性缺陷的坚固防线。 西藏半导体MappingOverInk处理系统价格Mapping Over Ink处理强化封测环节质量防线，拦截潜在失效风险Die。

半导体设计公司对良率分析的颗粒度要求极高，需兼顾芯片级精度与跨项目可比性。YMS系统支持接入Juno、AMIDA、CTA8280、T861、SineTest等平台产生的多格式测试数据，完成统一解析与结构化存储，确保从晶圆到单颗芯片的数据链完整。系统不仅实现时间趋势与区域对比分析，还能通过WAT参数漂移预警潜在设计风险，辅助早期迭代优化。SYL与SBL的自动计算功能，为良率目标达成提供量化依据；灵活报表引擎则支持按项目、产品线或客户维度生成分析简报，并导出为PPT、Excel或PDF，适配不同汇报场景。这种深度集成的能力，使良率管理从被动响应转向主动预防。上海伟诺信息科技有限公司以“以信为本，以质取胜”为准则，持续打磨YMS的功能完整性与行业适配性。

在半导体制造中，由于Fab制程的物理与化学特性，晶圆边缘的芯片（Edge Die）其失效率明显高于中心区域。这一现象主要源于几个关键因素：首先，在光刻、刻蚀、薄膜沉积等工艺中，晶圆边缘的反应气体流场、温度场及压力场分布不均，导致工艺一致性变差；其次，边缘区域更容易出现厚度不均、残留应力集中等问题；此外，光刻胶在边缘的涂覆均匀性也通常较差。这些因素共同导致边缘芯片的电气参数漂移、性能不稳定乃至早期失效风险急剧升高。因此，在晶圆测试（CP）的制造流程中，对电性测试图谱（Wafer Mapping）执行“去边”操作，便成为一项提升产品整体良率与可靠性的关键步骤。
上海伟诺信息科技有限公司Mapping Over Ink功能中的Margin Map功能提供多种算法与自定义圈数，满足客户快速高效低剔除边缘芯片，可以从根本上避免后续对这些潜在不良品进行不必要的封装和测试，从而直接节约成本，并确保出厂产品的质量与可靠性要求。工艺窗口优化得益于Mapping Over Ink处理对失效模式的精确识别，提升制造良率水平。

传统良率卡控依赖人工设定固定阈值，难以适应产品迭代或工艺波动。YMS系统基于历史测试数据自动计算SYL（良率下限）与SBL（良率控制线），并根据统计规律动态调整控制边界。当某批次实际良率跌破SBL时，系统立即触发告警，通知质量人员介入；若连续多批接近SYL，则提示需启动工艺评审。该机制将质量防线前置，防止低良率晶圆流入昂贵的封装环节，有效控制报废成本。自动计算替代经验估算，确保卡控标准客观、一致且可追溯。上海伟诺信息科技有限公司将SYL、SBL自动卡控作为YMS的关键功能，支撑客户实现过程质量的主动管理。Mapping Over Ink处理系统在质量事件发生时自动触发设备维护工单，实现预防性维护。上海MappingOverInk处理软件

Mapping Over Ink处理系统输出结构化日志，完整记录处理过程满足质量追溯需求。上海MappingOverInk处理软件

当CP良率骤降而FT失败模式复杂时，只靠单一测试阶段数据难以归因。YMS系统将WAT、CP与FT参数统一纳入分析框架，建立跨阶段关联模型。例如，若某批次WAT中栅氧击穿电压偏移，同时CP漏电流异常升高，YMS可自动关联两者趋势，提示前道氧化工艺可能存在波动。图形化界面支持并排查看参数曲线与良率变化，快速锁定关键影响因子，避免在封装或测试环节盲目排查。这种端到端的根因分析能力，将问题诊断周期从数天缩短至数小时，减少试产浪费。上海伟诺信息科技有限公司通过深度整合多源测试数据，使YMS成为良率攻关的关键工具。上海MappingOverInk处理软件

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