因Nanoscribe公司的加入使得CELLINK集团成为世界上头一家拥有双光子聚合(2PP)增材制造能力的生物科技公司。Nanoscribe公司的2PP技术能够在亚细胞尺度上对血管微环境进行生物打印，适用于细胞研究和芯片实验室应用。该技术未来也将助力集团的相关产品线开发，用于制造植入体、微针、微孔膜和组学应用耗材等。CELLINK集团的前列宏观结构生物打印技术与Nanoscribe公司的微观结构生物打印技术相结合做到了强强联手的协作效应，可以实现更逼真的组织结构，例如血管化和细胞支持体等。2PP技术将实现CELLINK集团所有三个业务的跨领域应用，并增强集团的耗材产品开发和供应。“借助Nanoscribe特别先进的2PP技术，我们可以实现扩大补充我们的产品组合，为我们的客户提供更加广的产品。目前Nanoscribe微纳米3D打印已经全方面进入中国市场。高分辨率Nanoscribe微流道
3D微纳加工技术应用于材料工程领域。材料属性可以通过成分和几何设计来调整和定制。通过使用Nanoscribe的3D微纳加工解决方案，可以实现具有特定光子，机械，生物或化学特性的创新超材料和仿生微结构。Nanoscribe的无掩模光刻系统在三维微纳制造领域是一个不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、与材料的普适性和便于操作的软件工具，在科学和工业项目中备受青睐。这种可快速打印的微结构在科研、手板定制、模具制造和小批量生产中具有广阔的应用前景。也就是说，在纳米级、微米级以及中尺度结构上，可以直接生产用于工业批量生产的聚合物母版。高分辨率Nanoscribe微流道微纳机械系统，咨询纳糯三维科技（上海）有限公司。
对于光纤上打印的SERS探针，研究人员必须克服几个制造上的挑战。首先，他们设计了一个定制的光纤支架，可以在光纤的切面上打印。然后，打印的物体必须与光纤的重要部分部分完全对齐，以激发制造的拉曼热点。剩下的一个挑战，特别是对于像单体阵列这样的丝状结构，是对可能倾斜的基材表面的补偿。光纤倾斜的基材表面导致SERS活性微结构的产量很低。为了推动光学领域的创新以及在医疗设备的应用和光学传感的发展，例如光纤SERS探头，Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系统QuantumXalign。凭借其专有的在光纤上的打印设置和在所有空间方向上的倾斜校正，新的3D打印系统可能已经为在光纤上打印SERS探针的挑战提供了答案，并为进一步改进和新的创新奠定了基础
Nanoscribe称，QuantumX是世界上基于双光子灰度光刻技术（two-photongrayscalelithography，2GL）的工业系统，目前该技术正在申请专利。2GL将灰度光刻技术与Nanoscribe的双光子聚合技术相结合，可生产折射和衍射微光学以及聚合物母版的原型。QuantumX的软件能实时控制和监控打印作业，并通过交互式触摸屏控制面板进行操作。为了更好地管理和安排用户的项目，打印队列支持连续执行一系列打印作业。该软件有程序向导，可在一开始就指导设计师和工程师完成打印作业，并能够接受任意光学设计的灰度图像。例如，可接受高达32位分辨率的BMP、PNG或TIFF文件，以便使用Nanoscribe的QuantumX进行直接制造。在双光子灰度光刻工艺中，激光功率调制和动态聚焦定位在高扫描速度下可实现同步进行，以便对每个扫描平面进行全体素大小控制。Nanoscribe称，QuantumX在每个扫描区域内可产生简单和复杂的光学形状，具有可变的特征高度。离散和精确的步骤，以及本质上为准连续的形貌，可以在一个步骤中完成打印，而不需要多步光刻或多块掩模制造。了解更多双光子微纳3D打印技术和产品信息，请咨询Nanoscribe中国分公司纳糯三维科技（上海）有限公司。
Nanoscribe公司成立于2007年，总部位于德国卡尔斯鲁厄，秉持着卡尔斯鲁厄理工学院（KIT）的技术背景的德国卡尔蔡司公司的支持，经过十几年的不断研究和成长，已然成为微纳米生产的带领者，一直致力于推动诸如力学超材料，微纳机器人，再生医学工程，微光学等创新领域的研究和发展，并提供优化制程方案。如今，Nanoscribe客户遍布全球30个国家，超过1500名用户正在使用Nanoscribe3D打印系统。这些大学包含哈佛大学、加州理工学院、牛津大学、伦敦帝国理工学院和苏黎世联邦理工学院等等。为了拓展并加强中国及亚太地区的销售推广和售后服务范围，Nanoscribe于2017年底在上海成立了独资子公司-纳糯三维科技（上海）有限公司。自Nanoscribe进军中国市场以来，已有20多家出名大学和研究所成为了Nanoscribe用户，其中包括多所C9前列高校联盟成员，例如：北京大学，复旦大学，南京大学等等。专注于微纳米3D打印设备的额研发和应用。德国2GLNanoscribe三维光刻
多组柱状体3D复杂微结构支架是用Nanoscribe自行研发的IP-Dip光刻胶进行3D打印。高分辨率Nanoscribe微流道
Nanoscribe称，QuantumX是世界上基于双光子灰度光刻技术（two-photongrayscalelithography，2GL）的工业系统，目前该技术正在申请专利。2GL将灰度光刻技术与Nanoscribe的双光子聚合技术相结合，可生产折射和衍射微光学以及聚合物母版的原型。多层衍射光学元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通过在扫描平面内调制激光功率来完成，从而减少多层微制造所需的打印时间。Nanoscribe表示，折射微光学也受益于2GL工艺的加工能力，可制作单个光学元件、填充因子高达100%的阵列，以及可以在直接和无掩模工艺中实现各种形状，如球面和非球面透镜。QuantumX的软件能实时控制和监控打印作业，并通过交互式触摸屏控制面板进行操作。为了更好地管理和安排用户的项目，打印队列支持连续执行一系列打印作业。高分辨率Nanoscribe微流道
