针对半导体晶圆研磨后的应力释放需求,国瑞热控**加热盘以温和温控助力晶圆性能稳定。采用铝合金基体与柔性导热垫层复合结构,导热垫层硬度 Shore A 30,可贴合研磨后晶圆表面微小凹凸,确保热量均匀传递。温度调节范围 30℃-150℃,控温精度 ±0.8℃,支持阶梯式升温(每阶段升温 5℃-10℃,保温 10-30 分钟),缓慢释放晶圆内部机械应力。配备氮气保护系统,避免加热过程中晶圆表面氧化,且加热盘表面粗糙度 Ra 小于 0.05μm,无颗粒划伤晶圆风险。与硅产业集团、中环股份等晶圆厂商合作,使研磨后晶圆翘曲度降低 20% 以上,提升后续光刻、刻蚀工艺的良率。均匀热场分布,避免局部过热,保护敏感样品工艺质量。宝山区高精度均温加热盘定制

国瑞热控刻蚀工艺加热盘,专为半导体刻蚀环节的精细温控设计,有效解决刻蚀速率不均与图形失真问题。产品采用蓝宝石覆层与铝合金基体复合结构,表面经抛光处理至镜面效果,减少刻蚀副产物粘附,且耐受等离子体轰击无损伤。加热盘与静电卡盘协同适配,通过底部导热纹路优化,使热量快速传导至晶圆背面,温度响应时间缩短至 10 秒以内。支持温度阶梯式调节功能,可根据刻蚀深度需求设定多段温度曲线,适配硅刻蚀、金属刻蚀等不同工艺场景。设备整体符合半导体洁净车间 Class 1 标准,拆卸维护无需特殊工具,大幅降低生产线停机时间。宝山区高精度均温加热盘定制独特加热元件设计,热效率大幅提升,节能环保同时保证长期稳定运行。

国瑞热控针对半导体量子点制备需求,开发**加热盘适配胶体化学合成工艺。采用聚四氟乙烯密封腔体与不锈钢加热基体复合结构,耐有机溶剂腐蚀,且无金属离子溶出污染量子点溶液。内置高精度温度传感器,测温精度达 ±0.1℃,温度调节范围 25℃-300℃,支持 0.1℃/ 分钟的慢速升温,为量子点成核、生长提供精细热环境。配备磁力搅拌协同系统,使溶液温度与搅拌速率同步可控,确保量子点尺寸均一性(粒径偏差小于 5%)。与中科院化学所等科研团队合作,成功制备 CdSe、PbS 等多种量子点,其荧光量子产率达 80% 以上,为量子点显示、生物成像等领域提供**制备设备。
面向先进封装 Chiplet 技术需求,国瑞热控**加热盘以高精度温控支撑芯片互联工艺。采用铝合金与陶瓷复合基材,加热面平面度误差小于 0.02mm,确保多芯片堆叠时受热均匀。内部采用微米级加热丝布线,实现 1mm×1mm 精细温控分区,温度调节范围覆盖室温至 300℃,控温精度 ±0.3℃,适配混合键合、倒装焊等工艺环节。配备压力与温度协同控制系统,在键合过程中同步调节温度与压力参数,减少界面缺陷。与长电科技、通富微电等企业适配,支持 2.5D/3D 封装架构,为 AI 服务器等高算力场景提供高密度集成解决方案。多重安全保护设计,漏电过载超温防护,安全可靠。

国瑞热控封装测试**加热盘聚焦半导体后道工艺需求,采用轻量化铝合金材质,通过精密加工确保加热面平整度误差小于 0.05mm,适配不同尺寸封装器件的测试需求。加热元件采用片状分布设计,热响应速度快,可在 5 分钟内将测试温度稳定在 - 40℃至 150℃之间,满足高低温循环测试、老化测试等场景要求。表面采用防粘涂层处理,减少测试过程中污染物附着,且易于清洁维护。配备可编程温控系统,支持自定义测试温度曲线,可存储 100 组以上测试参数,方便不同型号器件的测试切换。与长电科技、通富微电等封装测试企业合作,适配其自动化测试生产线,为半导体器件可靠性验证提供精细温度环境,助力提升产品良率。以客户需求为导向,快速响应询价定制,诚信合作。常州半导体晶圆加热盘非标定制
严格质量管理体系,ISO认证工厂生产,品质有保障。宝山区高精度均温加热盘定制
针对车载半导体高可靠性需求,国瑞热控测试加热盘适配 AEC-Q100 标准。采用**级铝合金基材,通过 - 55℃至 150℃高低温循环测试 5000 次无变形,加热面平整度误差小于 0.03mm。温度调节范围覆盖 - 40℃至 200℃,升降温速率达 30℃/ 分钟,可模拟车载芯片在极端环境下的工作状态。配备 100 组可编程温度曲线,支持持续 1000 小时老化测试,与比亚迪半导体、英飞凌等企业适配,通过温度冲击、湿热循环等可靠性验证,为新能源汽车电控系统提供质量保障。宝山区高精度均温加热盘定制
无锡市国瑞热控科技有限公司在同行业领域中,一直处在一个不断锐意进取,不断制造创新的市场高度,多年以来致力于发展富有创新价值理念的产品标准,在江苏省等地区的电工电气中始终保持良好的商业口碑,成绩让我们喜悦,但不会让我们止步,残酷的市场磨炼了我们坚强不屈的意志,和谐温馨的工作环境,富有营养的公司土壤滋养着我们不断开拓创新,勇于进取的无限潜力,无锡市国瑞热控科技供应携手大家一起走向共同辉煌的未来,回首过去,我们不会因为取得了一点点成绩而沾沾自喜,相反的是面对竞争越来越激烈的市场氛围,我们更要明确自己的不足,做好迎接新挑战的准备,要不畏困难,激流勇进,以一个更崭新的精神面貌迎接大家,共同走向辉煌回来!
针对半导体湿法工艺中溶液温度控制需求,国瑞热控湿法**加热盘采用耐腐蚀不锈钢材质,经电解抛光与钝化处理,可耐受酸碱溶液长期浸泡无腐蚀!加热盘内置密封式加热元件,与溶液完全隔离,避免漏电风险,同时具备1500V/1min的电气强度,使用安全可靠!通过底部加热与侧面保温设计,使溶液温度均匀性控制在±1℃以内,温度调节范围覆盖25℃至100℃,满足湿法刻蚀、清洗等工艺的温度要求!配备高精度温度传感器,实时监测溶液温度,当温度超出设定范围时自动启动加热或冷却调节,确保化学反应平稳进行!设备适配不同规格的湿法工艺槽体,可根据槽体尺寸定制加热盘形状与功率,为半导体湿法工艺的稳定性与重复性提供保障!精密温控...