企业商机
加热盘基本参数
  • 品牌
  • 无锡国瑞热控
  • 型号
  • 非标定制
  • 类型
  • 元素半导体材料,化合物半导体材料
  • 材质
  • 6061-T6,陶瓷,金属等
  • 产品名称
  • 晶圆加热盘
  • 产地
  • 江苏无锡
  • 厂家
  • 无锡国瑞热控
加热盘企业商机

无锡国瑞热控 PVD 工艺**加热盘,专为物***相沉积环节的严苛温控需求设计。作为晶圆加工的**载体与射频回路下电极,其采用陶瓷与高纯金属复合基材,经精密研磨确保加热面平面度误差小于 0.02mm,为薄膜均匀生长提供稳定基底。内部螺旋状加热元件与均温层协同作用,使晶圆表面温度均匀性控制在 ±1℃以内,适配 6 英寸至 12 英寸不同规格晶圆。设备整体采用无挥发洁净工艺处理,在高真空环境下无杂质释放,搭配快速升温技术(升温速率达 30℃/ 分钟),完美契合 PVD 工艺中对温度稳定性与生产效率的双重要求,为半导体薄膜制备提供可靠温控支撑。专业团队技术支持,从选型到安装全程指导,解决您的后顾之忧。南京探针测试加热盘非标定制

南京探针测试加热盘非标定制,加热盘

针对半导体退火工艺中对温度稳定性的高要求,国瑞热控退火**加热盘采用红外加热与电阻加热协同技术,实现均匀且快速的温度传递。加热盘主体选用低热惯性的氮化硅陶瓷材质,热导率达 30W/mK,可在 30 秒内将晶圆温度提升至 900℃,且降温过程平稳可控,避免因温度骤变导致的晶圆晶格损伤。表面喷涂耐高温抗氧化涂层,在长期高温退火环境下无物质挥发,符合半导体洁净生产标准。配备多组温度监测点,实时反馈晶圆不同区域温度数据,通过 PID 闭环控制系统动态调整加热功率,确保温度波动小于 ±1℃。适配离子注入后的退火、金属硅化物形成等工艺环节,与应用材料、东京电子等主流退火设备兼容,为半导体器件性能优化提供关键温控保障。嘉定区刻蚀晶圆加热盘供应商表面喷涂特殊涂层,防腐防氧化,延长设备使用寿命。

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面向深紫外光刻工艺对晶圆预处理的需求,国瑞热控配套加热盘以微米级温控助力图形精度提升。采用铝合金基体与石英玻璃复合结构,加热面平面度误差小于 0.01mm,确保晶圆与光刻掩膜紧密贴合。通过红外加热与接触式导热协同技术,升温速率达 15℃/ 分钟,温度调节范围 60℃-120℃,控温精度 ±0.3℃,适配光刻胶软烘、坚膜等预处理环节。表面经防反射涂层处理,减少深紫外光反射干扰,且具备快速冷却功能,从 120℃降至室温*需 8 分钟,缩短工艺间隔。与上海微电子光刻机适配,使光刻图形线宽偏差控制在 5nm 以内,满足 90nm 至 28nm 制程的精密图形定义需求。

国瑞热控快速退火**加热盘以高频响应特性适配 RTP 工艺需求,采用红外辐射与电阻加热复合技术,升温速率突破 50℃/ 秒,可在数秒内将晶圆加热至 1000℃以上。加热盘选用低热惯性的氮化铝陶瓷材质,搭配多组**温控模块,通过 PID 闭环控制实现温度快速调节,降温速率达 30℃/ 秒,有效减少热预算对晶圆性能的影响。表面喷涂抗热震涂层,可承受反复快速升降温循环而无开裂风险,使用寿命超 20000 次循环。设备集成温度实时监测系统,与应用材料 Centura、东京电子 Trias 等主流炉管设备兼容,为先进制程中的离子***、缺陷修复工艺提供可靠支持。加热盘及配套一站式,省时省心,长期可信赖供应商。

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国瑞热控 12 英寸半导体加热盘专为先进制程量产需求设计,采用氮化铝陶瓷与高纯铜复合基材,通过多道精密研磨工艺,使加热面平面度误差控制在 0.015mm 以内,完美贴合大尺寸晶圆的均匀受热需求。内部采用分区式加热元件布局,划分 8 个**温控区域,配合高精度铂电阻传感器,实现 ±0.8℃的控温精度,满足 7nm 至 14nm 制程对温度均匀性的严苛要求。设备支持真空吸附与静电卡盘双重固定方式,适配不同类型的反应腔结构,升温速率达 20℃/ 分钟,工作温度范围覆盖室温至 600℃,可兼容 PVD、CVD、刻蚀等多道关键工艺。通过与中芯国际、长江存储等企业的深度合作,已实现与国产 12 英寸晶圆生产线的无缝对接,为先进制程规模化生产提供稳定温控支撑。严格老化测试性能检验,确保产品零缺陷,品质有保障。杨浦区探针测试加热盘

结构紧凑安装便捷,集成多重安全保护机制,使用放心无后顾之忧。南京探针测试加热盘非标定制

针对原子层沉积工艺对温度的严苛要求,国瑞热控 ALD **加热盘采用多分区温控设计,通过仿真优化加热丝布局,确保表面温度分布均匀性符合精密制程标准。设备温度调节范围覆盖室温至 600℃,升温速率可达 25℃/ 分钟,搭配铂电阻传感器实现 ±0.1℃的控温精度,满足 ALD 工艺中前驱体吸附与反应的温度窗口需求。采用氮化铝陶瓷基底与密封结构,在真空环境下无挥发性物质释放,且能抵御反应腔体内腐蚀性气体侵蚀。适配 8 英寸至 12 英寸晶圆规格,通过标准化接口与拓荆、中微等厂商的 ALD 设备无缝兼容,为原子层沉积的高保形性薄膜制备提供保障。南京探针测试加热盘非标定制

无锡市国瑞热控科技有限公司是一家有着先进的发展理念,先进的管理经验,在发展过程中不断完善自己,要求自己,不断创新,时刻准备着迎接更多挑战的活力公司,在江苏省等地区的电工电气中汇聚了大量的人脉以及**,在业界也收获了很多良好的评价,这些都源自于自身的努力和大家共同进步的结果,这些评价对我们而言是比较好的前进动力,也促使我们在以后的道路上保持奋发图强、一往无前的进取创新精神,努力把公司发展战略推向一个新高度,在全体员工共同努力之下,全力拼搏将共同无锡市国瑞热控科技供应和您一起携手走向更好的未来,创造更有价值的产品,我们将以更好的状态,更认真的态度,更饱满的精力去创造,去拼搏,去努力,让我们一起更好更快的成长!

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针对半导体晶圆研磨后的应力释放需求,国瑞热控**加热盘以温和温控助力晶圆性能稳定!采用铝合金基体与柔性导热垫层复合结构,导热垫层硬度ShoreA30,可贴合研磨后晶圆表面微小凹凸,确保热量均匀传递!温度调节范围30℃-150℃,控温精度±0.8℃,支持阶梯式升温(每阶段升温5℃-10℃,保温10-30分钟),缓慢释放晶圆内部机械应力!配备氮气保护系统,避免加热过程中晶圆表面氧化,且加热盘表面粗糙度Ra小于0.05μm,无颗粒划伤晶圆风险!与硅产业集团、中环股份等晶圆厂商合作,使研磨后晶圆翘曲度降低20%以上,提升后续光刻、刻蚀工艺的良率!表面硬度强化处理,耐磨耐刮擦,保持长期美观实用。中国台湾...

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