活性炭具有高度发达的孔隙结构，包括微孔、中孔和大孔。这些孔隙提供了巨大的比表面积，能够通过物理吸附和化学吸附作用去除有机污染物。物理吸附是基于分子间的范德华力，活性炭的孔隙可以捕获有机分子。化学吸附则涉及活性炭表面的官能团（如羧基、羟基等）与有机污染物之间的化学反应。应用：在超纯水制备过程中，通常会使用颗粒活性炭（GAC）或粉末活性炭（PAC）。GAC 一般填充在吸附柱中，水通过吸附柱时，有机污染物被吸附在活性炭表面。PAC 则可以直接投加到水中，搅拌后通过过滤去除。例如，对于水中的腐殖酸、富里酸等天然有机物以及一些小分子的有机化合物，活性炭吸附都有很好的效果。不过，活性炭的吸附容量是有限的，随着吸附的有机污染物增多，其吸附效率会逐渐降低，需要定期更换或再生。超纯水的分配系统需防止交叉污染与回流现象。复配超纯水作用
超纯水是一种纯度极高的水，其电阻率高达 18.2 MΩ・cm 以上，几乎去除了水中所有的杂质，包括溶解性固体、有机物、微生物、胶体以及气体等。它的制备工艺极为复杂且精密，往往综合运用了反渗透、离子交换、超滤、紫外线杀菌、超滤膜过滤等多种先进技术手段。 在半导体制造领域，超纯水是芯片生产过程中的关键要素。芯片的微小电路结构对杂质极为敏感，哪怕是极其微量的离子或颗粒杂质都可能导致芯片短路、性能下降甚至报废。超纯水用于芯片的清洗、光刻、蚀刻等各个工序，确保了芯片制造的高精度和高质量。试验超纯水要求超纯水的分配系统需有完善的水质监测点。
反渗透膜及组件：反渗透系统的主要部件是反渗透膜，高质量的反渗透膜价格相对较高。而且，根据处理水量的需求，可能需要多个膜组件，这使得初始设备投资较大。例如，用于大规模工业生产超纯水的反渗透膜组件，一套可能需要数万元到数十万元不等。此外，还需要配套的压力泵、管道、阀门、过滤器等设备，这些辅助设备也增加了投资成本。预处理设备：由于反渗透系统对进水水质要求较高，需要一系列预处理设备，如机械过滤器、活性炭过滤器、软化器等。这些预处理设备的购置和安装成本也不容忽视，特别是对于处理高硬度、高有机物含量的原水，可能需要更复杂的预处理系统。然而，与其他一些高级水处理方法相比，反渗透法也有一定的成本优势。例如，与蒸馏法相比，反渗透法的能耗相对较低，而且在处理效率和水质稳定性方面表现较好，综合考虑长期运行和处理效果，其成本在一些应用场景下是可以接受的。同时，对于对水质要求极高的行业，如电子、制药等，反渗透法能够有效去除有机污染物，保证产品质量，其成本投入可以看作是确保产品高质量生产的必要支出。
例如在电子工业的半导体制造领域，特别是高精度芯片制造过程中，通常要求超纯水的电阻率接近或达到 18.2 MΩ・cm。这是因为芯片制造工艺对水中离子杂质极为敏感，即使微量的离子存在也可能导致芯片性能下降或出现故障。而在一些对水质要求稍低的行业，如一般的化学分析实验室，超纯水电阻率达到 10 - 18 MΩ・cm 左右也可能满足基本的实验需求。对于超纯水的微生物含量，通常要求每毫升水中的细菌菌落数（CFU/mL）低于 10 甚至更低。在一些对微生物极其敏感的领域，如制药行业的注射剂生产和生命科学研究中的细胞培养实验，超纯水的微生物标准要求更加严格，要求达到无菌状态，即每毫升水中的细菌菌落数几乎为零。气相色谱 - 质谱分析对超纯水纯度有极高要求。
超纯水，作为一种非常纯净的水，在众多高科技领域发挥着不可或缺的作用。它几乎不含任何杂质，包括矿物质、微生物、有机物和溶解性气体等。其制备过程极为复杂且精密，通常需要经过多步的预处理、反渗透、离子交换和超滤等技术。在电子芯片制造中，超纯水用于清洗硅片，哪怕是极其微小的杂质颗粒都可能导致芯片短路或性能故障，所以超纯水的高纯度保障了芯片生产的良率和可靠性。这种非常纯净的特性也使其在制药行业意义非凡，用于药品的生产与配制，避免杂质对药物活性成分产生影响，确保药品的质量和安全性达到高标准。超纯水在消防器材制造中用于高精度部件清洗。四川介绍超纯水
超纯水的生产能耗较高，节能技术是发展方向。复配超纯水作用
库仑滴定法，原理：样品消解后，过量的氧化剂用电解产生的二价铁为还原剂进行库仑滴定，并用电位法判别滴定终点，根据消耗的电量求出样品中的 COD 值。适用范围：适用于各种类型的水样。优点：操作简便、快速，自动化程度高，无需使用标准溶液滴定，可避免人为误差。缺点：仪器设备较复杂，成本较高，对水样的预处理要求较高，且测定结果受水样中其他可被氧化物质的干扰。测定范围较窄，精度相对较低，只能求得大体的 COD 范围，如需准确测量，还需采用其他标准方法。复配超纯水作用
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