我们都知道在选择快恢复二极管时,主要看它的正向导通压降、反向耐压、反向漏电流等。但我们却很少知道其在不同电流、不同反向电压、不同环境温度下的关系是怎样的,在电路设计中知道这些关系对选择合适的快恢复二极管显得极为重要,尤其是在功率电路中。在快恢复二极管两端加正向偏置电压时,其内部电场区域变窄,可以有较大的正向扩散电流通过PN结。只有当正向电压达到某一数值(这一数值称为“门槛电压”,锗管约为,硅管约为)以后,快恢复二极管才能真正导通。但快恢复二极管的导通压降是恒定不变的吗?它与正向扩散电流又存在什么样的关系?通过下图1的测试电路在常温下对型号为快恢复二极管进行导通电流与导通压降的关系测试,可得到如图2所示的曲线关系:正向导通压降与导通电流成正比,其浮动压差为。从轻载导通电流到额定导通电流的压差虽为,但对于功率快恢复二极管来说它影响效率也影响快恢复二极管的温升,所以在价格条件允许下,尽量选择导通压降小、额定工作电流较实际电流高一倍的快恢复二极管。常州市国润电子有限公司是一家专业提供快恢复二极管 的公司,有需求可以来电咨询!TO220封装的快恢复二极管MUR1640CTR
快恢复二极管模块工艺结构和特点图1超快恢复二极管模块内部电路连接图本模块是由二个或二个以上的FRED芯片按一定的电路(见图1)连成后共同封装在一个PPS(加有40%的玻璃纤维)外壳内制成,模块分绝缘型(模块铜底板对各主要电极的绝缘耐压Uiso≥)和非绝缘型二种,其特点(1)采用高、低温氢(H2)、氮(N2)混合气体保护的隧道炉和热板炉二次焊接工艺,使焊接温度、焊接时间和传送带速度之间有较好的匹配,并精确控制升温速度、恒温时同和冷却速度,使焊层牢固,几乎没有空洞,从而降低了模块热阻、保证模块出力,根据模块电流的大小,采用直接焊接或铝丝超声键合等方法引出电极,用RTV橡胶、及组份弹性硅凝胶和环氧树脂等三重保护,又加采用玻璃钝化保护的、不同结构的进口FRED芯片,使模块防潮、防震,工作稳定。(2)铜底板预弯技术:模块采用了高导热、高绝缘、机械强度高和易焊接,且热膨胀系数很接近硅芯片的氮化铝陶瓷覆铜板(ALNDBC板),使焊接后各材料內应力低,热阻小,并避免了芯片因应力而破裂。为了解决铜底板与DBC板间的焊接问题,除采用铜银合金外。并在焊接前对铜底板进行一定弧度的预弯。如图2(a),焊后如图2(b)。TO263封装的快恢复二极管MURB3040CT常州市国润电子有限公司力于提供快恢复二极管 ,有需求可以来电咨询!
二极管质量的好坏取决于芯片工艺。目前,行业内使用的二极管芯片工艺主要有两种:玻璃钝化(GPP)和酸洗(OJ)。二极管的GPP工艺结构,其芯片P-N结是在钝化玻璃的保护之下。玻璃是将玻璃粉采用800度左右的烧结熔化,冷却后形成玻璃层。这玻璃层和芯片熔为一体,无法用机械的方法分开。而二极管的OJ工艺结构,其芯片P-N结是在涂胶的保护之下。采用涂胶保护结,然后在200度左右温度进行固化,保护P-N结获得电压。OJ的保护胶是覆盖在P-N结的表面。玻璃钝化(GPP)和酸洗(OJ)特性对比玻璃钝化(GPP)和酸洗(OJ)芯片工艺由于结构的不同,当有外力产生时,冷热冲击,OJ工艺结构的二极管,由于保护胶和硅片不贴合,会产生漏气,导致器件出现一定比率的失效。GPP工艺结构的TVS二极管,可靠性很高,在150度的HTRB时,表现仍然很出色;而OJ工艺的产品能够承受100度左右的HTR
二极管的软度可以获取更进一步操纵。图3SONIC软恢复二极管的寿命控制该二极管回复波形异常的平滑从未振荡,所以电磁扰乱EMI值十分低。这种软恢复二极管不仅引致开关损失缩减,而且容许除去二极管的并联RC缓冲器。使用轴向寿命抑制因素可以取得较佳性能的二极管。电力电子学中的功率开关器件(IGBT、MOSFET、BJT、GTO)总是和迅速二极管相并联,在增加开关频率时,除传导损耗以外,功率开关的固有的功用和效率均由二极管的反向恢复属性决定(由图2的Qrr,IRM和Irr特点表示)。所以对二极管要求正向瞬态压降小,反向回复时间断,反向回复电荷少,并且具备软恢复特点。反向峰值电流IRM是另一个十分关键的属性。反向电流衰变的斜率dirr/dt由芯片的工艺技术和扩散参数决定。在电路中,这个电流斜率与寄生电感有关,例如连接引线,引起过电压尖峰和高频干扰电压。dirr/dt越高(“硬回复”属性),二极管和并联的开关上产生的附加电压越高。反向电流的缓慢衰减(“软恢复”特点)是令人令人满意的属性。所有的FRED二极管都使用了“软恢复”特点,SONIC二极管的恢复属性更“软”,它们的阻断电压范围宽,使这些迅速软恢复二极管能够作为开关电源(SMPS)的输出整流器常州市国润电子有限公司为您提供快恢复二极管 ,欢迎您的来电哦!
恢复二极管的特性由其内部结构以及所使用的材料决定。恢复二极管通常由具有快速开关速度和优异的反向恢复能力的材料制成。常见的材料包括硅、碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)。这些材料具有较高的移动速度和较低的电荷储存能力,从而保证了恢复二极管在反向恢复过程中的高效率和短时间。除了材料的选择,恢复二极管的内部结构也对其性能起着重要影响。在正向导通状态下,恢复二极管的载流子以及电荷分布会因结构的设计而有所不同。一些常见的设计包括薄膜二极管、MESFET(金属-半导体场效应晶体管)二极管、PIN二极管等。适用于高频率的电路场合,低频如工频50HZ以下用普通的整流二极管就好。TO220封装的快恢复二极管MUR1640CTR
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现提出下述实施例:一种高压快回复二极管芯片,包括芯片本体1,所述芯片本体1裹在热熔胶2内,所述热熔胶2裹在在封装外壳3内,所述封装外壳3由金属材质制成,所述封装外壳3的内部设有散热组件,所述散热组件包括多个散热杆4,多个散热杆4呈辐射状固定在所述芯片本体1上,所述散热杆4的另一端抵触在所述封装外壳3的内壁,所述散热杆4与所述芯片本体1的端部上裹有绝缘膜5,所述散热杆4的内部中空且所述散热杆4的内部填入有冰晶混合物6。在本实施例中,所述封装外壳3的壳壁呈双层构造且所述封装外壳3的壳壁的内部设有容纳腔7,所述容纳腔7与所述散热杆4的内部连接,所述容纳腔7的内部也填入有冰晶混合物6。散热杆4内融解的冰晶混合物6不停向外传递,充分传热。在本实施例中,所述散热杆4至少设有四根。TO220封装的快恢复二极管MUR1640CTR