Nanoscribe独有的体素调谐技术2GL®可以在确保优越的打印质量的同时兼顾打印速度，实现自由曲面微光学元件通过3D打印精确对准到光纤或光子芯片的光学轴线上。NanoscribeQX平台打印系统配备光纤照明单元用于光纤芯检测，确保打印精细对准到光纤的光学轴线上。共焦检测模块用于3D基板拓扑构图，实现在芯片的表面和面上的精细打印对准。Nanoscribe灰度光刻3D打印技术3Dprintingby2GL®是市场上基于2PP原理微纳加工技术中打印速度**快的。其动态体素调整需要相对较少的打印层次，即可实现具有光学级别、光滑以及纳米结构表面打印结果。这意味着在满足苛刻的打印质量要求的同时，其打印速度远远超过任何当前可用的2PP三维打印系统。2GL®作为市场上快的增材制造技术，非常适用于3D纳米和微纳加工，在满足优越打印质量的前提下，其吞吐量相比任何当前双光子光刻系统都高出10到60倍。从纳米结构到高精度的毫米级的物体打印展示出了微纳3D打印的出色功能。南通芯片上微纳3D打印保养
Nanoscribe Quantum X align作为前列的3D打印系统具备了A2PL®对准双光子光刻技术，可实现在光纤和光子芯片上的纳米级精确对准。全新灰度光刻3D打印技术3D printing by 2GL®在实现优异的打印质量同时兼顾打印速度，适用于微光学制造和光子封装领域。3D printing by 2GL®将Nanoscribe的灰度技术推向了三维层面。整个打印过程在最高速度扫描的同时实现实时动态调制激光功率。这使得聚合的体素得到精确尺寸调整，以完美匹配任何3D形状的轮廓。在无需切片步骤，不产生形状失真的要求下，您将获得具有无瑕疵光学表面的任意3D打印设计的真实完美形状。宁波双光子微纳3D打印三微光刻双光子零件可以3D打印出小于100nm分辨率物体。
售后支持和服务拥有超过14年的微加工技术经验，我们的技术支持团队努力在短的时间内为客户提供好的支持。在德国总部，中国分公司和美国分公司，以及通过Nanoscribe认证的经销商提供的销售服务和技术支持。我们的跨学科和多语言技术支持团队为客户提供各方面的支持:装机、维护和维修现场和线上的培训课程通过NanoGuide综合自助服务平台自助查询电话、电子邮件和设备自带远程支持功能基础操作技巧之外的高阶技术和应用支持延长维修保修合同、升级服务、移机服务
微纳3D打印技术是一种高精度、高分辨率的增材制造技术，其优势特点主要体现在以下几个方面：高精度和高分辨率：微纳3D打印技术可以实现微米级甚至纳米级的打印精度，能够制造出非常精细的结构和零件。这种高精度和高分辨率的特性使得微纳3D打印技术在制造微小零件、生物医学器件、光学元件等领域具有广泛应用。材料多样性：微纳3D打印技术可以使用多种材料进行打印，包括金属、陶瓷、聚合物等。这种材料多样性使得微纳3D打印技术可以满足不同领域对材料性能的需求。定制化能力强：微纳3D打印技术可以根据用户的需求定制设计，并实现个性化生产。这种定制化能力为设计师提供了更大的设计自由度，可以满足各种复杂、特异的需求。无需模具：传统的制造方法通常需要制作模具来生产零件，而微纳3D打印技术可以直接将设计好的模型打印成实体，省去了制作模具的步骤，缩短了制造周期，降低了成本。复杂结构制造能力：微纳3D打印技术可以制造出具有复杂内部结构的零件，这是传统制造方法难以实现的。这种复杂结构制造能力使得微纳3D打印技术在航空航天、汽车、生物医学等领域具有广泛应用前景。节省材料：微纳3D打印技术采用增材制造的方式，只在需要的地方添加材料。 Nanoscribe微纳米3D打印全方面涉足中国市场。
全新QuantumXshape作为Nanoscribe工业级无掩膜光刻系统QuantumX产品系列的第二台设备，可实现在25cm²面积内打印任何结构，很大程度推动了生命科学，微流体，材料工程学中复杂应用的快速原型制作。QuantumXshape作为具备光敏树脂自动分配功能的直立式打印系统，非常适合标准6英寸晶圆片工业批量加工制造。高速3D微纳加工系统QuantumXshape可实现出色形状精度和高精度制作。这种高质量的打印效果是结合了特别先进的振镜系统和智能电子系统控制单元的结果，同时还离不开工业级飞秒脉冲激光器以及平稳坚固的花岗岩操作平台。QuantumXshape具有先进的激光焦点轨迹控制，可操控振镜加速和减速至特别快的扫描速度，并以1MHz调制速率动态调整激光功率。
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Nanoscribe是微纳米生产的和3D打印市场的带领人物。南通芯片上微纳3D打印保养
Nanoscribe的PhotonicProfessional设备可用于将不同折射率的龙勃透镜和其他自由形状的光学组件打印于微孔支架材料上（例如孔状硅材及二氧化硅）。突出特点是不再像常规的双光子聚合（2PP）那样在基体表面进行直写，而是在孔型支架内。通过调整直写激光的曝光参数可以改变微孔支架内材料的聚合量，从而影响打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技术（通过激光束曝光控制的亚表面折射率）可以在保证亚微米级别的空间分辨率同时，对折射率的调节范围甚至超过0.3。为了证明SCRIBE新技术的巨大潜力，科研人员打印了众多令人瞩目的光学组件，例如已经提到的龙勃透镜。此外科研人员还打印了消色差双合透镜（如图示）。通过色散透镜聚焦的光因波长不同焦点位置也不尽相同。通过组合不同折射率的透镜可帮助降低透镜的色差。在给出的例子中，成像中的荧光强度和折射率高度相关，同时将打印的双透镜中的每个单独透镜可视化。 南通芯片上微纳3D打印保养
