六氟化硫8L

SF6气体分子对温室效应具有潜在的危害,这是因为六氟化硫(SF6)气体一个分子对温室效应的影响为CO2分子的25000倍,同时,排放在大气中的六氟化硫(SF6)气体寿命特长,约3400年。现今,每年排放到大气中的CO2气体约210亿,而每年排放到大气中的六氟化硫(SF6)气体相当于亿吨CO2气体。现在全球每年生产的大约8500吨六氟化硫(SF6)气体中，约有一半以上用于电力工业。而在电力工业中,高压开关设备约占用气量的80%以上。其中中压开关的用气量约占1/10；主要是用在126～252kV的高压、330～800kV的超高压领域,特别是126kV～252kV～550kV的断路器（GCB）、六氟化硫(SF6)封闭组合电器（GIS）、充气柜（C-GIS）、六氟化硫(SF6)气体绝缘管道母线（GIL）中。因此,合理、正确的使用管理六氟化硫(SF6)气体,减少排放量已到了非整治不可的地步。是已知化学安定性比较好的物质之一，其惰性与氮气相似。六氟化硫8L

环境影响虽然六氟化硫本身对人体无害，但它却是一种温室效应气体，其单分子的温室效应是二氧化碳的2.2万倍，是《京都议定书》中被禁止排放的6种温室气体之一。根据IPCC提出的诸多温室气体的GWP（全球变暖潜能）指标，六氟化硫的GWP值大，500年的GWP值为32400，且由于六氟化硫高度的化学稳定性，其在大气中存留时间可长达3200年。当今世界六氟化硫的排放量极少，对温室效应的贡献相比于二氧化碳而言完全可以忽略；但出于长久的环保和安全考虑，如何合理、正确的回收净化六氟化硫气体，是必须解决的问题。湖南六氟化硫生产厂贵州六氟化硫气体厂家。

    SF6断路器，是以SF6气体为绝缘介质的断路器。六氟化硫断路器是利用六氟化硫(SF6)气体作为灭弧介质和绝缘介质的一种断路器。简称SF6断路器。它与空气断路器同属于气吹断路器，不同之处在于：①工作气压较低；②在吹弧过程中，气体不排向大气，而在封闭系统中循环使用。六氟化硫用作断路器中灭弧介质始于20世纪50年代初。由于这种气体的优异特性，使这种断路器单断口在电压和电流参数方面大da高于压缩空气断路器和少油断路器，并且不需要高的气压和相当多的串联断口数。在20世纪60～70年代，SF6断路器已广fan用于超高压大容量电力系统中。80年代初已研制成功363千伏单断口、550千伏双断口和额定开断电流达80、100千安的SF6断路器。

六氟化硫用途：1、主要用于高压开关中灭弧，在大容量变压器和高压电缆中作为绝缘材料使用。可在核粒子加速器及避雷器X射线设备中作为气体的绝缘材料。2、利用SF6化学稳定性好，对设备不腐蚀，在冷冻工业中可作为冷冻剂（操作温度在－45～0℃之间），SF6对α-粒子有高度的停止能力，故在放射化学中也有应用；也可作为一种反吸附剂从矿井煤尘中置换氧。3、用作电子设备和雷达波导的气体绝缘体。目前，电网系统越来越多地采用六氟化硫（SF6）设备，但与其相关的安全注意事项培训相对不足。本文以PPT形式介绍了在六氟化硫电气设备上工作的注意事项、六氟化硫气体中毒伤亡时的应急处理及其它一些注意事项。一种神奇的气体，是吗？

无色、无臭、无毒、不燃的稳定气体，化学式SF₆它的分子量为146.07，在20℃和0.1MPa时密度为6.1kg/m3，约为空气密度的5倍。六氟化硫在常温常压下为气态，其临界温度为45.6℃，三相点温度为-50.8℃，常压下升华点温度为-63.8℃。六氟化硫分子结构呈八面体排布，键合距离小、键合能高，因此其稳定性很高，在温度不超过180℃时，它与电气结构材料的相容性和氮气相似。用途：可用于有色金属的冶炼和铸造工艺，也可用于铝及其合金熔融物的脱气和纯化。在微电子业中，可用六氟化硫蚀刻硅表面并去除半导体材料上的有机或无机膜状物，并可在光导纤维的制造过程中，作为单膜光纤隔离层掺杂剂。主要用于高压开关中灭弧，在大容量变压器和高压电缆中作为绝缘材料使用。六氟化硫气体价格，8L/10L/40L钢瓶。湖南六氟化硫生产厂

因为 SF6 气体较重，如果大量 SF6 气体聚积于低处且不通风的部位，它可能会挤占空气中的氧气。六氟化硫8L

从有关部门的试验及研究结果可知，SF6气体的du性主要来自5个方面。（1）SF6产品不纯，出厂时含高毒性的低氟化硫、氟化氢等有毒气体。（2）电器设备内的SF6气体在高温电弧发生作用时而产生的某些有毒产物。（3）电器设备内的SF6气体分解物与其内的水分发生化学反应而生成某些有毒产物。（4）电器设备内的SF6气体及分解物与电极（Cu－W合金）及金属材料（AL、Cu）反应而生成某些有毒产物。（5）电器设备内的SF6气体及分解物与绝缘材料反应而生成某些有毒产物。如与含有硅成分的环氧酚醛玻璃丝布板（棒、管）等绝缘件；或以石英砂、玻璃作填料的环氧树脂浇注件、模压件以及瓷瓶、硅橡胶、硅脂等起化学作用，生成SiF4、Si（CH3）2F2等产物。六氟化硫8L