光谱共焦基本参数
  • 品牌
  • 创视智能,tronsight
  • 型号
  • TS-C
  • 用途类型
  • 光谱位移传感器
  • 工作原理
  • 光谱共焦
  • 输出信号
  • 模拟型
  • 材质
  • 金属膜
  • 位移特征
  • 点位移
  • 测量范围
  • 中位移,小位移
光谱共焦企业商机

光谱共焦测量技术是共焦原理和编码技术的结合。白色光源和光谱仪可以完成一个相对高度范围的准确测量。光谱共焦位移传感器的准确测量原理如图1所示。在光纤和超色差镜片的帮助下,产生一系列连续而不重合的可见光聚焦点。当待测物体放置在检测范围内时,只有一种光波长能够聚焦在待测物表面并反射回来,产生波峰信号。其他波长将失去对焦。使用干涉仪的校准信息可以计算待测物体的位置,并创建对应于光谱峰处波长偏移的编码。超色差镜片通过提高纵向色差,可以在径向分离出电子光学信号的不同光谱成分,因此是传感器的关键部件,其设计方案非常重要。该传感器基于光谱共焦原理,能够实现对微小物体表面的位移变化进行高精度的非接触式测量。高速光谱共焦经销批发

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实际中,光谱共焦位移传感器可用于许多方面。它采用独特的光谱共焦测量原理,利用单探头可以实现对玻璃等透明材料的单向精确厚度测量,可有效监控药剂盘和铝塑泡罩包装的填充量,实现纳米级分辨率的精确表面扫描。该传感器可以单向测量试剂瓶的壁厚,并且对瓶壁没有压力,通过设计转向反射镜可实现孔壁结构检测和凹槽深度测量(90度侧向出光版本探头可直接测量深孔和凹槽)。光谱共焦传感器还可用于层和玻璃间隙测量,以确定单层玻璃层之间的间隙厚度。光谱共焦产品基本性能要求它通过对物体表面反射光的光谱分析,实现对物体表面位移变化的测量。

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光谱共焦成像技术比激光成像具有更高的精度,而且能够降低功耗和成本。但现有的光谱共焦检测设备大都是静态检测,检测效率低,而且难以胜任复杂异形表面。虽然也有些镜头可以移动的,但结构复杂、精度低,检测效率也低。一种光谱共焦检测装置,其采用光谱共为了克服现有技术的不足,本发明提供了其具体技术方案是,一种光谱共焦检测装置,包括:检测平台,用于安装被测物体;光谱共焦位移传感器,用于检测被测物体的位置或者形状。若干个直线电机位移平台,所述直线电机位移平台的动子上设置有所述检测平台或所述光谱共焦位移传感器。

光谱共焦传感器结合了高精度和高速度的现代技术,在工业 4.0 的高要求下,这些多功能距离和位移传感器非常适合使用。在工业 4.0 的世界中,传感器必须进行高速测量并提供高精度结果,以确保可靠的质量保证。由于光学测量技术是非接触式的,它们在生产和检测过程中变得越来越重要,可以单独应用于目标材料分开和表面特性。这是在“实时”生产过程中的一个主要优势,尤其是当目标位于难以接近的区域时,触觉测量技术正在发挥其极限。共焦色差测量技术提供突破性的技术,高精度和高速度,并且可以用于距离测量、透明材料的多层厚度测量、强度评估以及钻孔和凹槽内的测量。测量过程是无磨损的、非接触式的,并且实际上与表面特性无关。由于测量光斑尺寸很小,即使是非常小的物体也能被检测到。因此,共焦色度测量技术适用于在线质量控制。该技术可以采集样品不同深度处的光谱信息进行测量;

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根据对光谱共焦位移传感器原理的理解和分析,可以得出理想的镜头应具备以下性能:首先,产生较大的轴向色差,通常需要对镜头进行消色差措施,而该传感器需要利用色差进行测量,需要将其扩大化;其次,产生轴向色差后,焦点在轴上会因单色光的球差问题而导致光谱曲线响应的FWHM(半峰全宽)变大,影响分辨率;同时,为确保单色光在轴上汇聚到单一点,需要控制其球差;为保证传感器的线性度并平衡其各聚焦位置的灵敏度,焦点位置应尽量与波长成线性关系。光谱共焦技术具有轴向按层分析功能,精度可以达到纳米级别;光谱共焦厂家现货

光谱共焦技术的研究对于相关行业的发展具有重要意义;高速光谱共焦经销批发

随着社会的发展,智能设备不断进化,人们对个性化的追求日益增加。复杂的形状意味着对点胶设备提出更高的精度和灵活性要求。当前在手机中板和屏幕模组贴合时,需要在中板上面点一圈透明的UV胶,由于其白色反光特性,只能使用光谱共焦传感器进行完美测量。光谱共焦传感器的复合光特性可以完美高速地测量胶水的高度和宽度。由于胶水自身特性是液体,成型特性是弧形,材料特性是透明或半透明。因此,采用光谱共焦传感器是当前解决高精度点胶需求的方案之一,它具有非常高的分辨率和测量精度,并同时能够应对形状的复杂性和材料特性的多样性,能够满足各种行业的高精度测量要求。高速光谱共焦经销批发

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