光谱共焦是一种综合了光学成像和光谱分析技术的高精度位移传感器，在3C电子行业中应用极为大量。光谱共焦传感器可以用于智能手机内线性马达的位移测量，通过实时监控和控制线性马达的位移，可大幅提高智能手机的定位功能和相机的成像精度。也能测量手机屏的曲面角度、厚度等。平板电脑内各种移动结构部件的位移和振动检测是平板电脑生产过程中非常重要的环节。光谱共焦传感器可以通过对平板电脑内的各种移动机构、控制元件进行精密位移、振动、形变和应力等参数的测量，从而实现对其制造精度和运行状态的实时监控。光谱共焦位移传感器可以实现对材料的表面形貌进行高精度测量，对于研究材料的表面性质具有重要意义；在线管道壁厚检测光谱共焦工厂
光谱共焦测量技术是共焦原理和编码技术的融合。一个完整的相对高度范畴能够通过使用白光灯灯源照明灯具和光谱仪完成精确测量。光谱共焦位移传感器的精确测量原理如下图1所显示，灯源发出光经过光纤，再通过超色差镜片，超色差镜片能够聚焦在直线光轴上，产生一系列可见光聚焦点。这种可见光聚焦点是连续的，不重合的。当待测物放置检测范围内时，只有一种光波长能够聚焦在待测物表层并反射面，依据激光光路的可逆回到光谱仪，产生波峰焊。全部别的波长也将失去焦点。运用单频干涉仪的校准信息计算待测物体的部位，创建光谱峰处波长偏移的编号。该超色差镜片通过提升，具备比较大的纵向色差，用以在径向分离出来电子光学信号的光谱成份。因而，超色差镜片是传感器关键部件，其设计方案十分重要。非接触式光谱共焦传感器精度光谱共焦技术具有很大的市场潜力；
在点胶工艺中，生成的胶水小球目前只能通过视觉系统进行检验。然而，在生产中需要保证点胶路线是连续和稳定的，为此，可以利用色散共焦测量传感器系统控制许多质检标准中的很多参数。胶水小球必须放置在其他结构的正中间，异常的材料聚集以及连续性断裂都可以通过该系统检测。在3C领域，对于精密点胶的要求越来越高，需要实时检测胶水高度来实现闭环控制。传统激光传感器无法准确测量复杂胶水轮廓的高度，但是色散共焦测量传感器具有可适用于各种胶水轮廓高度测量的测量角度，特别是在圆孔胶高检测方面具有优势。因此目前业界通用做法是采用超大角度光谱共焦传感器，白光是复合光，总会有光线可以反射回来，加大了光线反射夹角(45°)，可以完美测量白色透明点胶的轮廓。
光谱共焦位移传感器是一种基于共焦显微镜和扫描式激光干涉仪的非接触式位移传感器。 它的工作原理是将样品表面反射的激光束和参考激光束进行干涉，利用干涉条纹的位移以及光谱的相关变化实现对样品表面形貌和性质的高精度测量。 该传感器可以实现微米级甚至亚微米级的位移测量精度，并且具有较宽的测量范围，通常在数十微米级别甚至以上。 光谱共焦位移传感器的优点是能够在高速动态、曲面、透明和反射性样品等复杂情况下实现高精度测量，具有很大的应用前景。 光谱共焦位移传感器主要应用于颗粒表面形貌和性质的研究、生物医学领域、材料表面缺陷和应力研究等领域，尤其在微纳米技术、精密制造、生物医学等领域具有重要应用价值。光谱共焦三维形貌仪用超大色散线性物镜组设计是一项重要的研究内容；
高精度光谱共焦位移传感器具有非常高的测量精度。它能够实现纳米级的位移测量，对于晶圆表面微小变化的检测具有极大的优势。在半导体行业中，晶圆的表面质量对于芯片的制造具有至关重要的影响，因此需要一种能够jing'q精确测量晶圆表面位移的传感器来保证芯片的质量。其次，高精度光谱共焦位移传感器具有较高的测量速度。它能够迅速地对晶圆表面进行扫描和测量，极大地提高了生产效率。在晶圆制造过程中，时间就是金钱，因此能够准确地测量晶圆表面位移对于生产效率的提高具有重要意义。另外，高精度光谱共焦位移传感器具有较强的抗干扰能力。它能够在复杂的环境下进行稳定的测量，不受外界干扰的影响。在半导体制造厂房中，存在各种各样的干扰源，如电磁干扰、光学干扰等，而高精度光谱共焦位移传感器能够抵御这些干扰，保证测量的准确性和稳定性。光谱共焦位移传感器可以实现对材料的微小变形进行精确测量，对于研究材料的性能具有重要意义；国产光谱共焦详情
该传感器具有高精度、高灵敏度、高稳定性等特点，适用于微纳尺度的位移变化测量。在线管道壁厚检测光谱共焦工厂
客户一直使用安装在洁净室的激光测量设备来检查对齐情况，每个组件大约需要十分钟才能完成必要的对齐检查，耗时太久。因此，客户要求我们开发一种特殊用途的测试和组装机器，以减少校准检查所需的时间。现在，我们使用机器人搬运系统将阀门、阀瓣和销组件转移到专门的自动装配机中。为了避免由于移动机器人的振动引起的任何测量干扰，我们将光谱共焦位移传感器安装在单独的框架和支架上，尽管仍然靠近要测量的部件。该机器现已经通过测试和验证。在线管道壁厚检测光谱共焦工厂
