安庆单盘自动金相磨抛机

金相磨抛机：试样磨光的目的是要能得到一个平整的磨面，这种磨面上还留有极细的磨痕，这将在以后的抛光过程中消除。磨光工序又可分为粗磨和细磨两步。粗磨：手工对于软材料可用锉刀锉平，一般材料都用砂轮机磨平。操作时应利用砂轮侧面，以保证试样磨平。要注意接触压力不宜过大同时要不断用水冷却，防止温度升高造成内部的组织发生变化。倒角时防止细磨时划破砂纸。但对需要观察脱碳、渗碳等表面层情况的试样不能倒角，有时还要采用电镀敷盖来防止这些试样边缘倒角。粗磨完成后，凡不作表面层金相检验的棱边都应倒成小圆弧，以免在以后的工序过程中会将砂纸或抛光物拉裂。甚至还可能会被抛光物钩住而被抛飞出外，造成事故。金相磨抛机（全自动）工作盘电机功率：750W。安庆单盘自动金相磨抛机

金相磨抛机在金相制样中，如果初次研磨不得当，那么很容易使样品表面出现划痕。那我们又如何防止制样过程中出现划痕呢，划痕即是样品表面上的线性凹槽，是由研磨粒子造成的。应对措施：确定在粗磨后，试样座上所有样品的表面都均匀地布满同样的磨痕花样；必要时重新进行粗磨；每一道步聚后均应仔细清洁样品和试样座，以去掉前一道工序中的大研磨粒子对磨/抛用具的干扰；如果在现行的抛光工序后仍有前面工序留下的磨痕，请先增加25~50%的制样时间。安庆单盘自动金相磨抛机金相磨抛机（全自动）电源电压：AC220V 50HZ (N+L1+PE)。

金相磨抛机技术参数：工作盘 Φ200mm/Φ230mm/250mm，转速 100-1000r/min，三档定速 S1=300r/min S2=500r/min S3=800r/min 可自定义，旋转方向 顺时针或逆时针可调，电机功率/电源电压 550W / AC220V 50HZ (N+L1+PE)，水压 1-10bar/0.1-1Mp，进水管 Φ8mm长2m，排水管 内径Φ40，环境温度 5-40℃，尺寸 720x6855x320mm，重量 50Kg。装箱清单：金相磨抛机 1台，进水管（带接头） 1根，排水管 1根，电源线（国标插头） 1根，卡圈 2个，砂纸（320#、600#、800#、1000#各一张） 4张，植绒 1张，帆布 1张，操作手册 1套，合格证 1张

通常由机座、底盘、动力磨抛头、控制单元及自动加液单元（可选）等部分组成，磨抛夹具可同时夹持多个试样，金相磨抛机的工作参数包括加载力方式和力值、底盘及动力头转向及转速、磨抛时间、冷却水和自动添加抛光液等设定等均通过控制单元输入，并可保存为程序供后续调用。整个过程中，工作人员只需做固定或放置、取出、清洁试样，更换砂纸、磨盘或抛光布等工作，磨抛操作均由设备按设定程序自行完成，明显提升制样效率、改善制备重现性、降低操作者工作强度，试样的放置及取出、清洗、烘干、磨盘/砂纸/抛光布的更换仍需人工进行。金相磨抛机可使制备好的试样应能观察到真实组织、无磨痕、麻点与水迹。

金相磨抛机：电子金相试样磨抛机与电子原子照明，扫描目标，通过镜头的聚焦。电子金相试样磨抛机利用电子束,工具金相试样磨抛机，通过电磁线圈集中,荧光金相试样磨抛机。在电子金相试样磨抛机下可以达到相当高的放大倍率；光学金相试样磨抛机（光）的对象而传统的金相试样磨抛机使用可见光。可见光由于其较小的波长收到限制。使用了一系列的镜片的屈光性质，即一个标准的实验室金相试样磨抛机观看的图像放大,偏光金相试样磨抛机。电子金相试样磨抛机与电子原子照明，扫描目标，通过镜头的聚焦。电子金相试样磨抛机利用电子束,工具金相试样磨抛机，通过电磁线圈集中,荧光金相试样磨抛机。在电子金相试样磨抛机下可以达到相当高的放大倍率；光学金相试样磨抛机（光）的对象而传统的金相试样磨抛机使用可见光。可见光由于其较小的波长收到限制。使用了一系列的镜片的屈光性质，即一个标准的实验室金相试样磨抛机观看的图像放大,偏光金相试样磨抛机。金相磨抛机粗磨、细磨、干磨、湿磨及抛光等各道工序。长沙单盘自动金相磨抛机制样设备厂家

金相磨抛机还可把前一道工序的磨痕除去。安庆单盘自动金相磨抛机

金相磨抛机制样操作说明：首先将制样耗材固定在磨抛机工作盘上，有两种不同的固定方式：选用卡箍可固定背部不带胶的耗材，将耗材放置在磨盘上边缘大致对其即可，然后选用附件卡箍将其固定在磨盘上，可得到平整的操作平面；选用快速转换系统，可快速进行制样耗材得到快速切换，但必须使用背部带胶的耗材或者金刚石研磨盘。此方式为常用方式。按下启动键，当瞬间磨盘达到最高转速时可打开水阀开关，手动调节好水流量大小。将样品用手拿着进行磨削和抛光操作。 安庆单盘自动金相磨抛机