光谱共焦基本参数
  • 品牌
  • 创视智能,tronsight
  • 型号
  • TS-C
  • 用途类型
  • 光谱位移传感器
  • 工作原理
  • 光谱共焦
  • 输出信号
  • 模拟型
  • 材质
  • 金属膜
  • 位移特征
  • 点位移
  • 测量范围
  • 中位移,小位移
光谱共焦企业商机

光谱共焦传感器可以提供结合精度和高速的现代技术。这些特性使这些多功能距离和位移传感器非常适合工业 4.0 的高要求。在工业 4.0 的世界中,传感器必须能够进行高速测量并提供高精度结果,以确保可靠的质量保证。光学测量技术是非接触式的,于目标材料分开和表面特性,因此它们对生产和检测过程变得越来越重要。这是“实时”生产过程中的一个主要优势,在这种过程中,触觉测量技术正在发挥其极限,尤其是当目标位于难以接近的区域时。光谱共焦传感器提供突破性的技术、高精度和高速度。此外,共焦色差测量技术允许进行距离测量、透明材料的多层厚度测量、强度评估以及钻孔和凹槽内的测量。测量过程是无磨损的、非接触式的,并且实际上与表面特性无关。由于测量光斑尺寸极小,即使是非常小的物体也能被检测到。因此,共焦色度测量技术适用于在线质量控制。光谱共焦技术的研究和应用将推动科学技术的进步。高采样速率光谱共焦厂家

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光谱共焦位移传感器在金属内壁轮廓扫描测量中具有大量的应用,以下是几种典型应用:尺寸测量利用光谱共焦位移传感器可以精确地测量金属内壁的尺寸,如直径、圆度等。通过测量内壁不同位置的直径,可以评估内壁的形变和扭曲程度,进而评估加工质量。表面形貌测量光谱共焦位移传感器可以高精度地测量金属内壁的表面形貌,如粗糙度、峰谷分布等。通过对表面形貌数据进行处理和分析,可以评估加工表面的质量,进而优化加工参数和提高加工效率。


推荐光谱共焦经销批发光谱共焦技术具有轴向按层分析功能,精度可以达到纳米级别。

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硅片栅线的厚度测量方法我们还用创视智能TS-C系列光谱共焦传感器和CCS控制器,TS-C系列光谱共焦位移传感器能够实现0.025 µm的重复精度,±0.02% of F.S.的线性精度,10kHz的测量速度,以及±60°的测量角度,能够适应镜面、透明、半透明、膜层、金属粗糙面、多层玻璃等材料表面,支持485、USB、以太网、模拟量的数据传输接口。。我们主要测量太阳能光伏板硅片删线的厚度,所以我们这次用单探头在二维运动平台上进行扫描测量。栅线测量方法:首先我们将需要扫描测量的硅片选择三个区域进行标记如图1,用光谱共焦C1200单探头单侧测量,栅线厚度是栅线高度-基底的高度差。二维运动平台扫描测量(由于栅线不是一个平整面,自身有一定的曲率,对测量区域的选择随机性影响较大)

主要是对光谱共焦传感器的校准后的误差进行分析。各自利用干涉仪与高精密测长机对光谱共焦传感器开展测量,用曲面测针确保光谱共焦传感器的激光光路坐落于测针,以确保光谱共焦传感器在测量时安装精密度,随后拆换平面图歪头,对光谱共焦传感器开展校准。用小二乘法对测量数据进行解决,获得测量数据库的离散系统误差。结果显示:高精密测长机校准后的离散系统误差为 0.030%,激光器于涉仪校准时的分析线形误差为0.038%。利用小二乘法开展数据处理方法及离散系统误差的计算,减少校准时产生的平行度误差及光谱共焦传感器的系统误差,提高对光谱共焦传感器的校准精密度。光谱共焦技术主要来自共焦显微术,早期由美国学者Minsky提出。

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光谱共焦技术将轴向距离与波长建立起一套编码规则,是一种高精度、非接触的光学测量技术。基于光谱共焦技术的传感器作为一种亚微米级、快速精确测量的传感器,已经被大量应用于表面微观形状、厚度测量、位移测量、在线监控及过程控制等工业测量领域。展望其未来,随着光谱共焦传感技术的发展,必将在微电子、线宽测量、纳米测试、超精密几何量计量测试等领域得到更多的应用。光谱共焦技术是在共焦显微术基础上发展而来,其无需轴向扫描,直接由波长对应轴向距离信息,从而大幅提高测量速度。光谱共焦技术可以测量位移,利用返回光谱的峰值波长位置。原装光谱共焦价格走势

光谱共焦技术的研究对于相关行业的发展具有重要意义。高采样速率光谱共焦厂家

三坐标测量机是加工现场常用的高精度产品尺寸及形位公差检测设备,其具有通用性强,精确可靠等优点。本文面向一种特殊材料异型结构零件内曲面的表面粗糙度测量要求,提出一种基于高精度光谱共焦位移传感技术的表面粗糙度集成在线测量方法,利用工业现场常用的三坐标测量机平台执行轮廓扫描,并记录测量扫描位置实时空间横坐标,根据空间坐标关系,将测量扫描区域的微观高度信息和扫描采样点组织映射为微观轮廓,经高斯滤波处理和评价从而得到测量对象的表面粗糙度信息。高采样速率光谱共焦厂家

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