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    硝酸是一种强氧化性、腐蚀性的强酸。硝酸易溶于水，常温下其溶液无色透明。其不同浓度水溶液性质有别，市售浓硝酸为恒沸混合物，质量分数为（约16mol/L），质量分数足够大（市售浓度为95%以上）的，称为发烟硝酸。硝酸易见光分解，应在棕色瓶中于阴暗处避光保存，也可保存在磨砂外层塑料瓶中（不太建议），严禁与还原剂接触。化学式是HNO3，浓硝酸与浓盐酸按体积比1:3混合可以制成具有强腐蚀性的王水。硝酸的酸酐是五氧化二氮（N2O5）。产品名称电子级硝酸英文名Nitricacid产品规格EL/UP/UP-S/UP-SS/UP-SSSCASNO7697-37-2包装形式4L/桶、20L/桶、200L/蓝圆桶、1000L/桶、槽车分子量质保期6-12个月分子式HNO3InChIInChI=1/NO3/c2-1(3)4/q-1/p+1ECNO231-714-2。龙腾光电用的哪家的BOE蚀刻液？江苏什么是BOE蚀刻液按需定制

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酸性蚀刻是制造印刷电路板过程中必不可少的工序，酸性蚀刻工序利用酸性蚀刻液在蚀刻机内完成。酸性蚀刻液包括酸性蚀刻子液和酸性蚀刻母液。通过再生循环方法提取铜回收废液继续使用，可以明显减少环境的污染，电解反应是通过阳极的氧化作用使一价铜变为二价铜，使得蚀刻液恢复再生能力，而阴极则通过还原作用来沉积铜，使得蚀刻液具备蚀刻的负载能力。但是会产生氯离子，阳极存在氯气析出的问题。氯气的析出不只危害了车间工人的健康，产生空气污染。

缓冲氧化物蚀刻剂(BOE)是一种用于微细加工的液体腐蚀剂。它的主要用途是蚀刻二氧化硅(SiO2)或氮化硅(Si3N4)的薄膜。它是氟化铵(NH4F)和氢氟酸(HF)等缓冲液的混合物。浓缩的HF蚀刻二氧化硅的速度太快，不能很好地进行工艺控制，同时也会剥落用于光刻图案化的光刻胶。BOE6:1is6partsbyvolume40%ammoniumfluorideand1partbyvolume49%HF.应用缓冲氧化物蚀刻剂(BOE)6：1可用于栅极光刻(gatephotolithography)的AlGaN/GaN基高电子迁移率晶体管的氧化物去除。它可用于缓冲氧化物蚀刻剂法，制造微型生物芯片。哪家的BOE蚀刻液性价比比较高？

    三氯化铁蚀刻液在印制电路、电子和金属精饰等工业中被采用，一般用来蚀刻铜、铜合金、不锈钢、铁及锌、铝等。虽然近些年来越来越要求再生容易，更加环保的蚀刻液，但由于三氯化铁蚀刻液它的工艺稳定，操作方便，价格便宜，因此还仍然被广大蚀刻加工企事业单位采用。三氯化铁蚀刻液适用于网印抗蚀印料、液体感光胶、干膜、镀金抗蚀层等抗蚀层的印制板的蚀刻。（但不适用于镍、锡、锡－铅合金等抗蚀层）1.蚀刻时的主要化学反应三氯化铁蚀刻液对铜箔的蚀刻是一个氧化－还原过程。在铜表面Fe3+使铜氧化成氯化亚铜。同时Fe3+被还原成Fe2+。FeCl3＋Cu→FeCl2＋CuClCuCl具有还原性，可以和FeCl3进一步发生反应生成氯化铜。FeCl3＋CuCl→FeCl2＋CuCl2Cu2+具有氧化性，与铜发生氧化反应：CuCl2＋Cu→2CuCl所以，FeCl3蚀刻液对Cu的蚀刻时靠Fe3+和Cu2+共同完成的。其中Fe3+的蚀刻速率快，蚀刻质量好；而Cu2+的蚀刻速率慢，蚀刻质量差。新配制的蚀刻液中只有Fe3+，所以蚀刻速率较快。但是随着蚀刻反应的进行，Fe3+不断消耗，而Cu2+不断增加。当Fe3+消耗掉35％时，Cu2+已增加到相当大的浓度，这时Fe3+和Cu2+对Cu的蚀刻量几乎相等；当Fe3+消耗掉50％时。 苏州性价比高的BOE蚀刻液。湖南一种BOE蚀刻液电话

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     微蚀刻液循环再生设备在使用中不但使微蚀刻工序基本实现污染零排放，并产出纯度高、价值高的电解金属铜。 一、微蚀液包括过硫酸钠/硫酸体系和双氧水/硫酸体系，在近几年的运用在PCB之表面处理制程，例如：沉铜（PTH)制程，电镀制程、内层前处理、绿油前处理、OSP处理等生产线。 我们公司目前对过硫酸钠/硫酸和双氧水/硫酸两种体系的微蚀工序研发设计了不同的循环再生设备。 无论是过硫酸钠/硫酸体系还是双氧水/硫酸体系,我司设备均可把饱和微蚀液处理再生后，返回客户生产线继续使用，回用时，不改变客户原生产工艺参数；在运行我们公司设备时可不停机亦可更换药水，从而达到稳定生产的目的。江苏什么是BOE蚀刻液按需定制