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    多级逆流萃取该厂用TY-1络合萃取剂，采用CWL450-M型离心萃取机对含酚废水进行处理。该工艺操作简单，开停车方便，设备维修方便，CWL450-M型离心萃取机理论处理量为15m3/h，混合效果较好，分离速度较快废水量为6m3/h。。操作温度为45℃，逆流萃取后萃取液中酚含量为80mg/L左右，处理后的萃取液满足生化处理的要求，直接进入生化段进行处理。采用18%的碱液（NaOH溶液）进行反萃，反萃后的有机相能够满足萃取的要求，直接进入萃取段继续脱酚，二碱液循环使用至游离碱含量低于5%左右送至酚钠回收工段。磷酸是一种重要的无机酸，中强酸，是化肥工业生产中重要的中间产品，主要用于化学肥料、工业磷酸盐、饲料级磷酸盐、磷酸盐、食品磷酸及电子级磷酸等的生产。您的选择是对我的肯定，苏州博洋化学股份有限公司欢迎您。江苏一种BOE蚀刻液厂家现货

一种蚀刻方法，其特征在于，使用根据权利要求1至7中任一项所述的蚀刻液，在铜的存在下选择性地蚀刻钛。蚀刻液及蚀刻方法技术领域[0001]本发明涉及一种用来在铜的存在下选择性地蚀刻钛的蚀刻液及使用该蚀刻液的蚀刻方法。背景技术[0002]以往，在蚀刻钛时一直使用含有氢氟酸或过氧化氢的蚀刻液。例如文献1中提出了一种钛的蚀刻液，该钛的蚀刻液是用来在铜或铝的存在下蚀刻钛，并且该蚀刻液的特征在于：利用由10重量％至40重量％的过氧化氢、0.05重量％至5重量％的磷酸、0.001重量％至0.1重量％的膦酸系化合物及氨所构成的水溶液将pH值调整为7至9。[0003]但是，含有氢氟酸的蚀刻液存在毒性高福建一种BOE蚀刻液商家苏州BOE蚀刻液的价格。

铜酸蚀刻液是半导体和显示技术中一类重要的原材料。半导体、薄膜晶体管液晶显示器)，有机发光半导体)等微电路原件首先由铜、钼或其合金在玻璃基板或者绝缘层上形成一定厚度的膜层，再用光刻胶形成图案，然后用铜酸蚀刻液将图案外的金属蚀刻掉，再用去光阻液将光刻胶去掉，以进行金属膜层的图案化，形成电极电路。随着显示器的大型化以及画质高清化，需要电阻率更低的金属来做电子传输导线，目前铜金属可以满足电导率高、价格相对较低等要求，但由于其与玻璃基板的粘附性较差以及铜元素易于向氧硅或者氮硅膜内进行扩散，所以会在其与玻璃之间加一层很薄的缓冲层，一般选用钼或者钼合金。

根据权利要求1至3中任一项所述的蚀刻液，其特征在于，进一步含有α-羟基羧酸和/ 或α-羟基羧酸的盐。 根据权利要求4所述的蚀刻液，其特征在于，所述α-羟基羧酸为选自由酒石酸、苹果酸、柠檬酸、乳酸及甘油酸所组成的群组中的至少一种。 根据权利要求1至5中任一项所述的蚀刻液，其特征在于，所述酸的浓度为20重量％至70重量％；所述有机硫化合物的浓度为0.01重量％至10重量％。 根据权利要求4至6中任一项所述的蚀刻液，其特征在于，所述α-羟基羧酸和/或α-羟基羧酸的盐的浓度为0.2重量％至5重量％。苏州博洋化学股份有限公司，蚀刻液专业生产商。

蚀刻液一般分为酸性蚀刻液和碱性蚀刻液两种。酸性蚀刻液主要成分氯化铜、盐酸、氯化钠和氯化铵。它的机理是：，；酸性蚀刻液具有蚀刻速率易控制,蚀刻液在稳定状态下能达到高的蚀刻质量的特性；同时，它的溶铜量大；酸性蚀刻液也较容易再生与回收，从而减少污染。有研究表明，酸性氯化铜蚀刻液的蚀刻系数通常为3，以硝酸为基础的蚀刻系统可以做到几乎没有侧蚀，达到蚀刻的线条侧壁接近垂直，其蚀刻效果非常好。结合以上特性，酸性蚀刻液一般用于多层印制板的内层电路图形的制作或微波印制板阴板法直接蚀刻图形的制作。BOE蚀刻液欢迎咨询苏州博洋化学股份。安徽哪些新型BOE蚀刻液商家

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废蚀刻液经过废蚀刻液铜分离循环机构后再经组分调配可供蚀刻机循环使用；氨水洗废液经过氨水洗废液铜分离循环机构后可供蚀刻机循环使用；反萃剂经过电解提铜循环机构电解分离铜后可再进入反萃循环机构中循环使用，该实用新型在整个处理过程物料实现闭路循环，没有废水废物排出，能有效回收铜和再生蚀刻液和氨水洗液，减少蚀刻工序的污水排放量，降低环保压力，但是该实用新型工序较为复杂。 技术实现要素： 本发明为了解决现有技术的问题，提供了一种PCB酸性蚀刻液提取铜的方法及装置，采用循环再生技术，既有利于环保，又能够回收铜，实现能源的有效利用。江苏一种BOE蚀刻液厂家现货

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