将管道的另一端连接到真空源。使用一升的真空烧瓶作为疏水阀和一个Millex-FA。过滤器（目录号SLFA05010）可保护真空源不受污染，如下所示。注意：任何可以产生410毫巴（12inHg）和34L/min的真空源就足够了。如果是真空如果源的工作温度高于410毫巴，则SNAPi.d.2.0系统将自动调节真空度压力。如果真空源不足，则流经系统的流量可能会不一致，从而导致更长的时间。处理时间和/或抗体回收率差。 印迹大会和总议定书 1.用支撑层（蓝色边缘）握住吸墨纸托并弄湿膜层上海哪家有卖支持半天完成WB实验的实验加速器？黄浦区加速完成WB实验WB实验加速器参数
育时间。2.0系统。建议使用5倍浓度的二抗，持续10分钟。抗体回收1.执行《通用议定书》的步骤1至5，但将真空时间增加到2分钟，以确保所有的封闭溶液都已从框架的凹槽和通道中移除。2.从底座上取下印迹固定框架，并用一根刷子擦拭框架底部的所有残留液体。纸巾。3.将抗体收集盘放入底座，确保抗体上的定位孔收集盘与底座中的定位销对齐。注意：对于Mini和Midi框架，将单个清洁托盘放置在底座的**。对于多印迹如图所示，在框架上放置两个收集托盘。在MultiBlot框架中运行单点印迹时，嘉定区MerckSNAPi.d.2.0加速器WB实验加速器联系人加速可回收抗体实验用加速器的报价具体是多少呢?
定器堵塞的风险印迹中信号不均匀，以及样品交叉污染。请参阅适用的国际，联邦，州和地方法规，以进行适当处置。 故障排除症状原因纠正措施真空控制旋钮棒_清洁不足用洒水冲洗系统。吸盘座不能倒空真空度不足确保系统和真空之间的管道连接或何时缓慢排空来源是安全的。真空MutiBlot框架用于在MultiBlot框架中进行单点印迹时，放置正确处理一次印迹，然后空白卡在空井。未放入空白卡空井清洁不足确保框架**的所有系统垫片和阀门均处于院长，无碎屑或盐分。清空真空瓶，然后更换串联的Milx9-
入30mL封闭溶液（MultiBlot为15毫升）。向下按框架并转动系统旋钮施加真空。当框架完全为空时，关闭真空。注意：如果使用抗体回收托盘，请在步骤5之后插入托盘。有关详细信息，请参阅“抗体恢复”部分。 6.在整个表面上涂适量的一抗吸墨纸架的数量（对于MultiBlot为2.5毫升，对于迷你吸墨纸为5毫升，或10mL用于Midi印迹）。7.在室温下孵育10分钟。解决方案将是吸收到污点固定器中，表面可能会变干。重要提示：请勿在吸尘器清洁后再使用真空吸尘器。孵育10分钟。8.向Merck同时操作4个WB实验加速上海授权代理商。
于任何错误，我们不承担任何责任可能会出现在本文件中。 联系信息 有关离您比较近的办公室的位置。技术援助 请访问我们网站上的技术服务页面，网址为xxx。 标准保固 可在xxx上找到本出版物中所列产品的适用保修。符合压力设备指令SNAPi.d.@2.0系统不属于压力设备指令97/23/EC（PED）的范围，因此，与此指令的一致性不适用。 两天完成一个WB是一件很痛苦的事，如果结果还不好，那就不是一点点沮丧啊！WB费时间的步骤很多，电泳、转膜已经很成熟了，默克密理博的SNAP i.d多通道加速实验Merck实验加速器的报价具体是多少呢?闵行区MerckWB实验加速器WB实验加速器哪家好
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下压框架并施加真空。等待5-8秒，直到框架完全是空的。9.在连续运行真空的情况下，添加30mL洗涤缓冲液（MultiBlot为15毫升）。重复洗涤步骤3次以上（总共4次洗涤）。当框架完全为空时，将TURN真空关闭。10.在印迹架的表面上涂适量的二抗（对于多印迹，为2.5mL，5毫升用于迷你印迹，或10毫升用于Midi印迹）。在室温下孵育10分钟，然后关闭真空。同样，溶液将被吸收到印迹架中，并且表面可能看起来干燥。重要提示：孵育10分钟后，再抽真空。11.向下压框架并施加真空。黄浦区加速完成WB实验WB实验加速器参数
